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[实用新型]单面研磨机-CN202223554650.X有效
发明人：姜湛江 -专利权人：东莞市炜安达智能科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型公开一种单面研磨机，包括有机架、控制器、承载转盘、旋转驱动机构、多个挡料机构以及多个研磨机头；该机架上具有一开口朝上的研磨腔；该承载转盘可转动地设置于研磨腔中；该旋转驱动机构设置于机架上并带动承载转盘转动，旋转驱动机构连接控制器；该多个挡料机构设置于机架上，多个挡料机构呈周圆排布在承载转盘的表面上方；该多个研磨机头设置于机架上并分别位于对应挡料机构之侧旁的上方，每一研磨机头均与控制器电性连接。通过设置多个挡料机构，利用多个挡料机构对多个工件进行阻挡，使得工件自转，研磨时，只需将工件放置在承载转盘上即可，无需进行装夹，操作简便，同时，一次可对多个工件进行研磨，有效提高了研磨效率。
单面研磨机

[发明专利]单面研磨机的重锤盘自动定位升降机构-CN201410232917.4在审
发明人：吕国荣;周志超;李觅 -专利权人：无锡超豪机械制造有限公司
申请日： 2014-05-29 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种单面研磨机的重锤盘自动定位升降机构，包括：驱动单元与定位套管，驱动单元的驱动轴穿设在定位套管内与定位套管的一端连接，于驱动单元与定位套管间设置有对定位套管进行定位的顶板；定位套管的另一端连接单面研磨机的重锤砝码与重锤盘，重锤盘的底面开设有定位凹孔，单面研磨机的工件夹具盘上对应定位凹孔设置有定位凸柱。
单面研磨机重锤自动定位升降机构

[实用新型]单面研磨机的重锤盘自动定位升降机构-CN201420280966.0有效
发明人：吕国荣;周志超;李觅 -专利权人：无锡超豪机械制造有限公司
申请日： 2014-05-29 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单面研磨机的重锤盘自动定位升降机构，包括：驱动单元与定位套管，驱动单元的驱动轴穿设在定位套管内与定位套管的一端连接，于驱动单元与定位套管间设置有对定位套管进行定位的顶板；定位套管的另一端连接单面研磨机的重锤砝码与重锤盘，重锤盘的底面开设有定位凹孔，单面研磨机的工件夹具盘上对应定位凹孔设置有定位凸柱。
单面研磨机重锤自动定位升降机构

[实用新型]单面抛光用多晶片厚度补偿装置及研磨设备-CN201721583246.1有效
发明人：宋士佳;童翔 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本实用新型涉及晶圆制备技术领域，尤其涉及一种单面抛光用多晶片厚度补偿装置及研磨设备。该装置包括载具，所述载具上开设有多个晶片容纳槽，所述晶片容纳槽内设有晶片承载垫和伸缩机构，所述晶片承载垫的第一面用于安装待研磨晶片，所述晶片承载垫的第二面与所述伸缩机构的伸缩端相连接，并可在所述伸缩端带动下沿纵向来回移动；所述载具设有用于将所述载具与研磨设备的研磨头相连接的连接器。该研磨设备，其包括研磨设备本体、设于所述研磨设备本体上的研磨头，以及上述单面抛光用多晶片厚度补偿装置。该厚度补偿装置能够将各待研磨晶片的工作面自动调整至位于同一水平面上，减少了人力物力成本，该研磨设备简化了工艺步骤。
研磨设备厚度补偿装置单面抛光晶片承载多晶片晶片容纳伸缩机构研磨晶片研磨头制备技术领域连接器本实用新型工艺步骤人力物力同一水平第二面伸缩端伸缩晶圆下沿载具移动

[发明专利]一种蓝宝石衬底切割片再生加工方法-CN201811345946.6在审
发明人：徐良;蓝文安;占俊杰;阳明益;刘建哲;余雅俊 -专利权人：浙江博蓝特半导体科技股份有限公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：本发明公开一种蓝宝石衬底切割片再生加工方法，包括万向底座平台、研磨砂轮、X光绕射仪器。通过该设计方法，将衬底切割片单面吸附于平台后，以X光折射仪器配合万象底座平台调整方位后，以砂轮进行单面研磨。
切割片衬底再生蓝宝石砂轮表面晶体单面研磨底座平台厚度差异万向底座研磨砂轮偏轴绕射吸附轴向加工修正折射配合

[发明专利]单面减薄方法和单面减薄设备-CN202210603660.3在审
发明人：贺云鹏;王贺 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司
申请日： 2022-05-30 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于控制硅片的形貌的单面减薄方法，包括：使硅片通过其第一表面贴附在第一加工台的承载平面上；基于硅片的中心位置需求厚度与边缘位置需求厚度之差对第一加工台的承载平面相对于研磨装置的研磨平面的倾角进行调整；通过研磨平面对硅片的与第一表面相反的第二表面进行研磨；对硅片进行翻面并使硅片通过其第二表面贴附在第二加工台的承载平面上；将第二加工台的承载平面相对于研磨平面的倾角调整至零；以及通过研磨平面对硅片的第一表面进行研磨本公开还涉及一种用于控制硅片的形貌的单面减薄设备。通过该方法和设备，可以有效且稳定地实现对硅片的形貌的控制。
单面方法设备

[发明专利]一种制备单面高亮度酸腐片的工艺方法-CN201910453435.4有效
发明人：由佰玲;张冲波;苏荣义;白玉麟;甄红昌;王聚安;徐荣清;王彦君 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种制备单面高亮度酸腐片的工艺方法，包括如下步骤：(1)单面剪切磨削：采用磨削砂轮对双面研磨片的其中一个表面进行剪切磨削，磨削去除量为10‑20μm，得到单面磨削片；(2)酸腐蚀：使用酸腐蚀液对步骤(1)得到的单面磨削片进行酸腐蚀，得到单面高亮度酸腐片。本发明与传统工艺路线相比增加了单面剪切磨削这一工序，单面剪切磨削实现了酸腐片正反两面亮度不同，酸腐蚀后制备出单面光泽度大于360Gs、反射率大于98％，粗糙度较小的酸腐片，保证了使用要求，替代抛光片，节约了成本
一种制备单面亮度酸腐工艺方法

[发明专利]一种双面抛光晶片的加工方法-CN202210768342.2在审
发明人：林骞;余雅俊;占俊杰;徐良;刘建哲 -专利权人：金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请涉及晶片加工技术领域的一种双面抛光晶片的加工方法，包括以下步骤：选取经过单面研磨的晶片；其中，晶片经过单面研磨的面为晶片正面；选用抛光液对晶片正面进行超轻压技术抛光；使用研磨液对晶片背面进行深度研磨；选用抛光液对经过深度研磨的晶片的背面进行化学机械抛光，得到双面抛光的晶片。本申请的加工方法将原先走单抛片路线良品的或不良的晶片进行双抛片工艺再生利用加工，而且由于单抛片加工过程已完成晶片其中一侧即晶片正面的研磨工序，在双抛片加工过程中，只需对晶片正面进行调整、修饰的抛光即可，
一种双面抛光晶片加工方法

[实用新型]一种自动输送研磨生产线-CN202021208847.6有效
发明人：郭齐学 -专利权人：商丘星林电子产业有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种自动输送研磨生产线，包括工作台，工作台上设置有自动转向输送轨道，自动转向输送轨道的上料端设置有第一研磨装置，下料端设置有第二研磨装置，第二研磨装置包括第一磨削轮和位于磨削轮配合的单面磨导轨，单面磨导轨的上料端与自动转向输送轨道的下料端相接，第一研磨装置包括设置于工作台上的机座，机座上设置有工件输送机构，工件输送机构的上方设置有第二磨削轮，工件输送机构的上料端设置有进料框，下料端与自动转向输送轨道的上料端相接本实用新型实现了自动连续研磨作业，适合工件的流水线作业，大幅度的提高了生产效率。
一种自动输送研磨生产线

[实用新型]链条罗拉单面研磨装置-CN202222326225.9有效
发明人：郭亮 -专利权人：桂盟链条（太仓）有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B19/00 文献下载
摘要：本实用新型提供链条罗拉单面研磨装置，涉及链条加工设备领域。该链条罗拉单面研磨装置，包括支撑板，所述支撑板一侧固定连接有固定盘，所述固定盘一侧固定连接有多个连接轴，所述支撑板一侧设有转动轴，所述转动轴依次贯穿支撑板和固定盘并与支撑板和固定盘转动连接，所述转动轴外侧固定连接有打磨轮，该链条罗拉单面研磨装置，使弹簧推动连接板，使限位框与多个链条罗拉进行接触，对其进行限位，当转动轴转动时，定位杆带动连接盘进行转动，使连接盘带动固定架转动，进而使固定架外侧固定连接的多个扇叶在限位框内部进行转动
链条罗拉单面研磨装置

[实用新型]一种陶瓷插芯端面研磨设备-CN202320388380.5有效
发明人：王欣欣;刘亚华;王泽芳;屈攀 -专利权人：河南纳展光电科技有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种陶瓷插芯端面研磨设备，涉及陶瓷插芯加工设备技术领域，具体为一种陶瓷插芯端面研磨设备，包括第一陶瓷插芯、第一支撑筒、支撑盘和支撑箱，限位半筒的外表面设置有连接方板。该陶瓷插芯端面研磨设备，通过空心限位块的设置，使该陶瓷插芯端面研磨设备具备了防止连接方板发生偏移的效果，通过单面弧形长板、第一限位柱和限位环的配合设置，在使用的过程中可以使限位方板进入到单面弧形长板内，达到了研磨精度高的目的，通过支撑长板的设置，使该陶瓷插芯端面研磨设备具备了使连接块和直钩形长板同步转动的效果，通过第一支撑筒和弧形连接长板的配合设置，达到了研磨范围广的目的。
一种陶瓷端面研磨设备

[实用新型]单面磨载具以及单面磨装置-CN202120161559.8有效
发明人：吴丽平;李旭辉 -专利权人：苏州领裕电子科技有限公司
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本申请提供一种单面磨载具以及单面磨装置，包括底板；定位板，定位板上开设有用于放置并定位产品的第一开口；固定件，定位板和底板通过固定件连接，定位板与底板可拆卸。本申请的底板和定位板通过固定件连接，定位板上开设有用于放置产品的第一开口，第一开口能够放置并定位产品，在完成产品的装载后，将产品送入进行研磨。经过研磨后，使得定位板出现磨损的情况下，可通过拆卸固定件使得定位板与底板分离，在分离后，更换新的定位板，无需更换整个单面磨载具，能够节省成本。
单面磨载具以及装置

[发明专利]抛光盘在线研磨机-CN202010297811.8在审
发明人：寇明虎;郝元龙 -专利权人：北京特思迪设备制造有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：本发明公开了抛光盘在线研磨机，包括单面抛光机，所述单面抛光机的左侧固定连接有支撑板，所述单面抛光机的右侧安装有升降机构，所述升降机构左侧的顶部安装有平移机构，所述平移机构前侧的右侧安装有主轴固定微进给机构本发明通过设置主轴固定微进给机构、平移机构、升降机构、支撑板和单面抛光机的配合使用，解决了现有的抛光机的抛光盘盘面在安装中极易产生安装误差，同时修整盘面盘形角度会有偏斜，导致抛光效果不好，不便于使用者使用的问题，该抛光盘在线研磨机，具备能够消除大尺寸抛光机抛光盘面跳动的安装误差及修整盘面盘形角度的优点。
抛光在线研磨机

[实用新型]抛光盘在线研磨机-CN202020561068.8有效
发明人：寇明虎;郝元龙 -专利权人：北京特思迪设备制造有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了抛光盘在线研磨机，包括单面抛光机，所述单面抛光机的左侧固定连接有支撑板，所述单面抛光机的右侧安装有升降机构，所述升降机构左侧的顶部安装有平移机构，所述平移机构前侧的右侧安装有主轴固定微进给机构本发明通过设置主轴固定微进给机构、平移机构、升降机构、支撑板和单面抛光机的配合使用，解决了现有的抛光机的抛光盘盘面在安装中极易产生安装误差，同时修整盘面盘形角度会有偏斜，导致抛光效果不好，不便于使用者使用的问题，该抛光盘在线研磨机，具备能够消除大尺寸抛光机抛光盘面跳动的安装误差及修整盘面盘形角度的优点。
抛光在线研磨机

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN200910169164.6有效
发明人：小川一幸;下村哲生;数野淳;中井良之;渡边公浩;山田孝敏;中森雅彦 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2005-12-08 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，既使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫在研磨区域(8)及透光区域(9)的单面设有防透水层(10)，并且透光区域与防透水层由相同材料一体化形成。
研磨制造方法