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[发明专利]电脑机箱的喷涂工艺-CN201710512851.8在审
发明人：刘克军 -专利权人：昆山特酷信息科技有限公司
申请日： 2017-06-29 - 公布日： 2017-09-08 - 主分类号： B05D7/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种电脑机箱的喷涂工艺，包括以下步骤步骤S1，对电脑机箱表面进行氧化过程生成化学氧化膜；步骤S2，对机箱表面的化学氧化膜进行烘烤处理以脱去化学氧化膜中分子结合水；步骤S3，对机箱表面的化学氧化膜进行砂纸打磨以增加机箱表面粗糙度；步骤S4，对打磨后的机箱表面进行清洁擦洗；步骤S5，在化学氧化膜表面喷涂聚氟乙烯涂料形成漆膜；步骤S6，对漆膜进行烘干成膜。本发明在涂料喷涂之前对氧化膜进行烘烤使氧化膜中的分子结合水预先脱去，避免影响后续漆膜的附着力，产生流挂现象。本发明方法简单，易于操作。
电脑机箱喷涂工艺

[发明专利]一种铝合金氧化成膜所用的电解氧化液以及铝合金氧化成膜方法-CN201910738011.2有效
发明人：西华昆;马康慷;张祥华;庄乾浩;毕小雪;杨维玉;高瑞安 -专利权人：潍坊国一铝材有限公司;高瑞安;临朐县检验检测中心
申请日： 2019-08-12 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： C25D11/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种铝合金氧化成膜所用的电解氧化液以及铝合金氧化成膜方法，所述电解氧化液中含有以下组分：氟化氢氨0.1～1g/L，草酸5～60g/L；所述氧化液中Al3+氧化成膜方法，使用上述的电解氧化液，采用电解法，在铝合金表面通过化学成膜和电化学成膜共同作用形成一层有机无机含氟氧化膜。使用本发明的电解氧化液电解氧化成膜，化学成膜电化学成膜共同作用，成膜过程快；氧化液中铝离子浓度一般在0.1g/L左右即产生电离平衡，铝离子浓度不再增加，因此氧化液不需更换，可循环使用，因此相比现有技术固废减少
一种铝合金氧化所用电解以及方法

[发明专利]半导体基板的热氧化膜形成方法-CN202180035761.9在审
发明人：大槻刚;阿部达夫 -专利权人：信越半导体株式会社
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体基板的热氧化膜形成方法，其具有下述工序：相关关系获取工序，其中，预先准备由清洗而形成的化学氧化膜的构成各不相同的多个半导体基板，在相同的热氧化处理条件下进行热氧化处理从而形成热氧化膜，求出化学氧化膜的构成与热氧化膜的厚度的相关关系；清洗条件确定工序，其中，根据在相关关系获取工序中得到的相关关系，以使形成于半导体基板的热氧化膜的厚度为规定厚度的方式确定化学氧化膜的构成，并同时确定形成具有确定出的化学氧化膜的构成的化学氧化膜的清洗条件；基板清洗工序，其中，在所确定的清洗条件下对半导体基板进行清洗；热氧化膜形成工序，其中，对于进行了清洗的所述半导体基板，在与相关关系获取工序中的热氧化处理条件相同的条件下，对半导体基板进行热氧化处理，在所述半导体基板表面形成热氧化膜由此，能够再现性良好地将热氧化膜形成为如预期的膜厚。
半导体氧化形成方法

[发明专利]镁合金化学转化-微弧氧化制备深色陶瓷膜的方法-CN201010267526.8有效
发明人：邵忠财 -专利权人：沈阳理工大学
申请日： 2010-08-31 - 公布日： 2010-12-15 - 主分类号： C23C22/10 文献下载
摘要：本发明属于镁合金表面处理技术领域，涉及镁合金化学转化-微弧氧化深色陶瓷膜制备方法。将不同型号的镁合金清洗干净后，首先对其进行化学转化处理，使其生成带有金属离子的化学转化膜；然后将已经生成带有金属离子的化学转化膜的镁合金放入微弧氧化电解液中，对其进行微弧氧化处理，得到深色微弧氧化陶瓷膜本发明通过引入不同金属阳离子Mn7+、Mo6+与V5+，形成带有相应金属离子的化学转化膜，然后将其放入不同的微弧氧化电解液中，微弧氧化处后得到不同颜色的微弧氧化陶瓷膜。
镁合金化学转化氧化制备深色陶瓷膜方法

[发明专利]一种低铬镁合金化学氧化溶液与化学氧化方法-CN201910842198.0在审
发明人：汤宏才 -专利权人：北京星航机电装备有限公司
申请日： 2019-09-06 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： C23C22/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种低铬镁合金化学氧化溶液与化学氧化方法。该氧化溶液包括K₂Cr₂O₇ 5g/L～10g/L、CeSO₄ 0.5g/L～1g/L、MgSO₄ 0.5g/L～1g/L、H₂SO₄ 1g/L～2g/L，进行化学氧化处理，化学氧化溶液的温度为15℃～30℃，氧化时间为10分钟～20分钟。本发明的化学氧化溶液中使用的重铬酸钾浓度比常规溶液低5到8倍，膜层质量相当。氧化膜层致密，外观均匀。经过镁合金化学氧化通常使用的点滴方法进行膜层耐腐蚀检测，膜层耐腐蚀时间大于25秒。
化学氧化溶液化学氧化膜层镁合金耐腐蚀致密常规溶液氧化膜层氧化溶液重铬酸钾浓度比低铬检测

[发明专利]一种减少热电化学氧化陶瓷膜表面粗糙度的方法-CN202011638633.7在审
发明人：李昊旻;雷厉;于飞;高宇飞 -专利权人：西比里电机技术（苏州）有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： C25D11/18 文献下载
摘要：本申请提供一种减少热电化学氧化陶瓷膜表面粗糙度的方法，对环境和作业现场都很环保，并且设备简单、成本低；所述的减少热电化学氧化陶瓷膜表面粗糙度的方法，包括步骤：S1，采用沸水对热电化学氧化后的工件进行封孔处理，热电化学氧化后的工件的表面具有原位生长的氧化陶瓷膜；S2，对步骤S1中封孔处理后的工件，采用阳极氧化膜和铝棒通电后进行电泳处理。
一种减少热电化学氧化陶瓷膜表面粗糙方法

[发明专利]氧化石墨烯膜和相关方法-CN201780028491.2有效
发明人：施雷亚·H·戴夫;杰弗里·C·格罗斯曼;戈奇·代乌尔·韩;布兰特·凯勒 -专利权人：麻省理工学院
申请日： 2017-05-11 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：提供了包含氧化石墨烯片的膜和关联的过滤介质以及方法。在一些实施方案中，膜可以包含经历了一种或更多种化学处理的氧化石墨烯片。所述化学处理可以赋予膜有益的特性，例如相对小的层间距、与宽范围的环境的相容性、物理稳定性和电中性。例如，氧化石墨烯片可以经历在膜中的至少一部分氧化石墨烯片之间形成化学连接的一种或更多种化学处理。这样的化学连接可以赋予小的层间距、宽的相容性，和/或允许形成相对厚的膜。在某些实施方案中，氧化石墨烯片可以经历通过改变某些官能团的电离度赋予膜相对电中性的一种或更多种化学处理。本文所述的氧化石墨烯膜可以用于宽范围的应用。
氧化石墨相关方法

[发明专利]铝及铝合金化学转化-微弧氧化制备陶瓷膜的方法-CN201110169891.X有效
发明人：邵忠财;杨丽;张璇 -专利权人：沈阳理工大学
申请日： 2011-06-23 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： C23F17/00 文献下载
摘要：本发明属于表面处理技术领域，涉及铝及铝合金化学转化-微弧氧化陶瓷膜制备方法。将铝及铝合金清洗干净后，首先对其进行化学转化处理，使其生成带有金属离子的化学转化膜；然后将其放入微弧氧化电解液中，对其进行微弧氧化处理，得到深色微弧氧化陶瓷膜。本发明通过引入不同金属阳离子Mn7+、Mo6+、Ni2+、Ce2+、Co2+与Zr2+，在铝及铝合金表面形成带有相应金属离子的化学转化膜，然后将其放入不同的微弧氧化电解液中，微弧氧化处后得到耐蚀性提高的微弧氧化陶瓷膜，同时也可以使膜层带上颜色。
铝合金化学转化氧化制备陶瓷膜方法

[发明专利]一种铝及铝铜复合散热器局部化学氧化的电镀、化学镀工艺-CN200710028893.0无效
发明人：谢文珍;李东林 -专利权人：东莞市通旺达五金制品有限公司
申请日： 2007-06-29 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：本发明涉及铝及铝铜复合散热器的电镀、化学镀工艺技术领域，特指一种铝及铝铜复合散热器局部化学氧化的电镀、化学镀工艺，本发明是在对散热器进行浸锌工艺之前对散热器进行局部化学氧化和封闭，其是先通过化学氧化将非施镀面氧化，在非施镀面上覆盖上层多孔氧化膜，再通过封闭利用封闭剂填充多孔氧化膜的孔穴，使多孔氧化膜形成一层耐酸和碱的腐蚀的氧化膜，再连接目前现有的化学镀或电镀工艺，仅在铝散热器或铝铜复合散热器与主机相连的部位镀上一层具有可焊性的镍磷合金，本发明工艺只对散热器需施镀的部位进行化学镀或电镀，工艺简单，易于实现，节省镍等贵金属资源，降低产品成本。
一种复合散热器局部化学氧化电镀工艺

[发明专利]一种化学焊接锰氧化物改性陶瓷膜的方法-CN202310577216.3在审
发明人：王盼盼;蔡雅娟;马军;伊俊达;王晗 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2023-05-22 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：一种化学焊接锰氧化物改性陶瓷膜的方法，它属于饮用水净化及废水污染治理领域，具体涉及一种化学焊接锰氧化物改性陶瓷膜的方法。本发明的目的是要解决现有改性膜的厚度难以控制和改性膜的均匀性差的问题。方法：一、陶瓷膜的预处理；二、配置预制液；三、固定陶瓷膜；四、预制液经氮气压入膜表面及膜孔道；五、重复步骤四；六、过一硫酸氢钾溶液经氮气压入膜表面及膜孔道；七、重复步骤五；八、将改性后陶瓷膜保存在去离子水中，得到化学焊接锰氧化物改性陶瓷膜。本发明制备的锰氧化物颗粒改性膜提高了陶瓷膜的亲水性和动态抗污染性能。本发明可获得一种化学焊接锰氧化物改性陶瓷膜。
一种化学焊接氧化物改性陶瓷膜方法

[发明专利]一种镁合金铸件表面无铬化学氧化槽液组合物及其工艺-CN201010254953.2无效
发明人：徐金林;褚杰;吴平;沈思齐 -专利权人：上海航天精密机械研究所
申请日： 2010-08-17 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： C23C22/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种镁合金铸件表面无铬化学氧化槽液组合物，该组合物由以下浓度的组分组成：85％磷酸8～18g/l；聚二硫二丙基磺酸钠0.5～10g/l；偏钒酸铵0.5～8g/l；硝酸钙40～50g/l；磷酸二氢钠本发明公开的化学氧化工艺中镁合金铸件在不含铬离子的上述专用槽液组合物中进行化学氧化处理。本发明对镁合金铸件表面的化学氧化处理效果较好，形成的化学氧化成膜质量达到传统铬酸盐氧化膜层的耐蚀性，经过本发明化学氧化工艺处理的镁合金氧化膜层适用于产品加工工序中间防护和作为最终产品喷涂漆膜的底层等。
一种镁合金铸件表面化学氧化组合及其工艺

[发明专利]掺杂氧化镓膜的制备方法及掺杂氧化镓膜-CN201310398997.6有效
发明人：夏晓川;申人升;柳阳;梁红伟;杜国同;胡礼中 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2013-09-05 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： C30B25/02 文献下载
摘要：本发明提供一种掺杂氧化镓膜的制备方法及掺杂氧化镓膜，该掺杂氧化镓膜的制备方法包括以下步骤：选取衬底，所述衬底中含有目标掺杂元素；采用金属有机物化学气相沉积法在所述衬底上制备氧化镓膜，得到掺杂氧化镓膜初品；对制备得到的掺杂氧化镓膜初品进行热处理和激活，得到掺杂氧化镓膜。本发明掺杂氧化镓膜的制备方法步骤科学、合理，有效解决了目前金属有机物化学气相沉积法难以实现氧化镓膜的多种类、安全、有效掺杂的问题。本发明制备得到的掺杂氧化镓膜具有优良的导电特性。
掺杂氧化制备方法

[发明专利]半导体基板的热氧化膜形成方法-CN202180032465.3在审
发明人：大槻刚;阿部达夫 -专利权人：信越半导体株式会社
申请日： 2021-03-08 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明为一种半导体基板的热氧化膜形成方法，该方法具有下述工序：相关关系获取工序，其中，预先准备多个化学氧化膜的构成不同半导体基板，在相同的热氧化处理条件下形成热氧化膜，求出化学氧化膜的构成与热氧化膜的厚度的相关关系；基板清洗工序，其中，对半导体基板进行清洗；热氧化膜的厚度推定工序，其中，求出由基板清洗工序中的清洗形成于半导体基板的化学氧化膜的构成，根据相关关系，推定假设在相关关系获取工序中的热氧化处理条件下对半导体基板进行热氧化处理时的热氧化膜的厚度；热氧化处理条件确定工序，其中，以相关关系获取工序中的热氧化处理条件为基准，以使热氧化膜的厚度为规定厚度的方式确定热氧化处理条件；热氧化膜形成工序，其中，在热氧化处理条件确定工序中确定的热氧化处理条件下在半导体基板上形成热氧化膜由此，再现性良好地将热氧化膜形成为如预期的薄的厚度。
半导体氧化形成方法

[发明专利]含铟氧化膜及其制备方法-CN201380006939.2有效
发明人：高元勇;金炳洙;马东焕 -专利权人： UP化学株式会社
申请日： 2013-01-28 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： C01G15/00 文献下载
摘要：本发明涉及通过化学气相沉积或原子层沉积形成的氧化铟膜、或涉及含铟氧化膜，以及涉及形成该膜的方法。通过化学气相沉积或原子层沉积，其中使用在室温下为液体的铟材料，可以在具有大面积的衬底上形成含铟氧化膜，特别是可以在用于制造显示器的衬底上形成含铟氧化膜。
氧化膜化学气相沉积原子层沉积衬底制造显示器氧化铟膜铟材料制备

[发明专利]预还原的氧化石墨烯膜及其制备方法、石墨烯导热膜及其制备方法-CN201910429144.1在审
发明人：吴艳红;唐润理;方钢;张婧;耿飚;瞿研 -专利权人：常州第六元素材料科技股份有限公司
申请日： 2019-05-22 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： C01B32/184 文献下载
摘要：本发明提供一种预还原的氧化石墨烯膜及其制备方法、石墨烯导热膜及其制备方法。所述预还原的氧化石墨烯膜的制备方法包括：向氧化石墨烯浆料加入化学还原剂，搅拌分散，涂膜，干燥，得到预还原的氧化石墨烯膜；所述化学还原剂为氧化石墨烯含量的0.005％‑0.15％。所述石墨烯导热膜的制备方法包括：采用所述预还原的氧化石墨烯膜的制备方法制备预还原的氧化石墨烯膜；和采用热还原法进一步处理氧化石墨烯膜，得到石墨烯导热膜。本发明在氧化石墨烯膜涂膜前对氧化石墨烯进行预还原，能够提高热还原制备石墨烯导热膜的还原效率，有效降低生产成本。
还原氧化石墨及其制备方法导热

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