专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种磁控溅射仪-CN201720046804.4有效
  • 侯则良 - 福建省诺希科技园发展有限公司
  • 2017-01-16 - 2017-09-19 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种磁控溅射仪,包括溅射室、预处理室、磁力传递杆、机械分子和冷却水管,溅射室和处理室之设有阀板,预处理室和磁力传递杆相连,预处理室还与机械分子相连,分子与冷却水管相连,冷却水管进水处设有水位检测开关,所述水位检测开关包括壳体、壳体内设有水管,水管上设有一受其内水压可上下运动的活塞,活塞上端部设有一具有导电能力的顶针,顶针上方设有一具有导电能力的弹片,顶针和弹片串接在分子的电源线的L线上,这种磁控溅射仪在使用过程中,活塞受到水的压强作用向上浮起,顶针与弹片连通,分子通电正常工作,反之活塞受重力影响而落下,顶针和弹片断开,分子就停止工作,防止分子被烧毁。
  • 一种磁控溅射
  • [发明专利]增强排气型复合分子-CN200810228430.3无效
  • 刘坤;李涛;常学森;巴德纯 - 东北大学;成都南光机器有限公司
  • 2008-10-31 - 2009-06-17 - F04D19/04
  • 本发明涉及一种增强排气型复合分子,涉及真空技术领域,包括壳、座、光轴、转子体和定子,转子体由涡轮级转子和螺旋槽牵引分子级转子组成,光轴与转子体连接,转子体中涡轮级转子位于螺旋槽牵引分子级转子上方,螺旋槽牵引分子级转子下方连有增强排气级转子,增强排气级转子为光板;涡轮级转子之间设有涡轮级定子叶片,螺旋槽牵引分子级转子之间设有螺旋槽牵引分子级定子,增强排气级转子两侧设有增强排气级定子。并汇集了拖动气体分子运动和涡轮分子的原理,通过这种结构设计达到具有大抽速、高真空能力和增大排气能力的复合分子,该具有效率高、体积小、造价低的优点。
  • 增强排气复合分子
  • [发明专利]真空-CN201980019833.3有效
  • 三轮田透;高井庆行;坂口祐幸 - 埃地沃兹日本有限公司
  • 2019-03-20 - 2022-07-26 - F04D19/04
  • 提供能够使正常运转的同时抑制气体的固化的真空。在具有从外部吸入气体的吸气口(11b)和将被吸入的气体向外部排出的排气口(11a)的壳(11)内,设置有涡轮分子机构(PA)、螺纹槽机构(PB)、第1温度调整机构(39)、第2温度调整机构(40),前述涡轮分子机构(PA)具有被沿轴向交替地多级排列的旋转翼(23)及固定翼(31),前述螺纹槽机构(PB)被与涡轮分子机构(PA)的排气口(18a)侧连续设置,前述第1温度调整机构(39)将涡轮分子机构(PA)的温度冷却调整,前述第2温度调整机构(40)将涡轮分子机构(PA)加热调整。
  • 真空泵
  • [发明专利]真空、以及真空构成零件-CN201980068548.0在审
  • 坂口祐幸 - 埃地沃兹日本有限公司
  • 2019-10-24 - 2021-05-28 - F04D19/04
  • 提供一种能够高效地冷却气体,并且检修频次较少的真空。具备:主体壳体(14),具有气体的进气部(12)和排气部(13);涡轮分子机构部(17),形成有定子翼(19)和转子翼(20);螺纹槽机构部(18),设置于涡轮分子机构部(17)的下游侧;冷却阱部(81),将从涡轮分子机构部(17)导出的气体冷却而使其向螺纹槽机构部(18)侧流出;分隔壁(29),将从涡轮分子机构部(17)导出的气体引导至冷却阱部(81)。
  • 真空泵以及构成零件
  • [实用新型]分子结构镀膜用单元式真空室-CN201020190002.9有效
  • 李桂良;苏宜龙 - 上海子创镀膜技术有限公司
  • 2010-05-12 - 2010-12-29 - C23C14/35
  • 本实用新型涉及到一种分子结构镀膜用单元式真空室,属于磁控镀膜机械领域,技术方案是一个大真空腔室通过隔板分为若干个小真空单元,在每个真空单元的隔板上覆盖有阴极盖板,所述阴极盖板径向中心线位置上设置有分子安装法兰,同时,其上端和下端还分别设置有至少四个以上的溅射阴极安装孔,所述分子安装法兰上安装有分子,溅射阴极安装孔上安装有溅射阴极,当阴极盖板覆盖分子时,阴极溅射工作;当阴极盖板覆盖阴极溅射时,分子工作,解决了以前溅射阴极和分子不能同时工作的缺陷。
  • 分子结构镀膜单元真空

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