专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]显示设备-CN201220259206.2有效
  • 刘俊峰 - 联想(北京)有限公司
  • 2012-06-01 - 2013-01-16 - G09F9/00
  • 本实用新型提供了一种显示设备,包含:显示构件,具有一显示表面;以及光学构件,位于光学构件第一侧的第一表面和位于光学构件第二侧的第二表面,第一表面具有第一反射和第一透射,第二表面具有第二反射和第二透射,从第一表面外侧向所一表面入射的第一光线,由第一表面或第二表面反射,形成进入第一表面外侧的第一反射光线;同时从第二表面外侧向所述第二表面入射的第二光线,依次通过第二表面和第一表面,形成进入第一表面外侧的第一透射光线;第一反射、第一透射、第二反射和第二透射满足第一预定条件,使得位于所述第一表面外侧的观察者能够同时看到第一反射光线和第一透射光线。
  • 显示设备
  • [发明专利]光学层叠体及其制造方法以及用途-CN202310787850.X在审
  • 尾道浩 - 株式会社大赛璐
  • 2021-06-11 - 2023-09-19 - G02B1/118
  • 本发明的课题在于提供可抑制低波长区域的反射、能够降低光反射、从而提高图像的黑度感的防反射膜。为此,本发明提供在基材层的至少一面依次层叠防眩层、低折射层而成的光学层叠体,其中,将上述低折射层表面的偏度Rsk调整为小于0,将在380~780nm的波长范围的光谱反射的标准偏差σ调整为0.5以下,将光反射调整为2.5以下。可以是,上述低折射层表面的算术平均粗糙度Ra为0.01~0.5μm、轮廓曲线的最大截面高度Rt为0.1~1μm、轮廓曲线要素的平均长度RSm为1~50μm。可以是,上述光学层叠体的雾度为30%以下、全光线透过可以为90%以上。上述光学层叠体的光泽度60°可以为50%以下。
  • 光学层叠及其制造方法以及用途
  • [发明专利]光学层叠体及其制造方法以及用途-CN202110651730.8有效
  • 尾道浩 - 株式会社大赛璐
  • 2021-06-11 - 2023-06-23 - G02B1/118
  • 本发明的课题在于提供可抑制低波长区域的反射、能够降低光反射、从而提高图像的黑度感的防反射膜。为此,本发明提供在基材层的至少一面依次层叠防眩层、低折射层而成的光学层叠体,其中,将上述低折射层表面的偏度Rsk调整为小于0,将在380~780nm的波长范围的光谱反射的标准偏差σ调整为0.5以下,将光反射调整为2.5以下。可以是,上述低折射层表面的算术平均粗糙度Ra为0.01~0.5μm、轮廓曲线的最大截面高度Rt为0.1~1μm、轮廓曲线要素的平均长度RSm为1~50μm。可以是,上述光学层叠体的雾度为30%以下、全光线透过可以为90%以上。上述光学层叠体的光泽度60°可以为50%以下。
  • 光学层叠及其制造方法以及用途
  • [发明专利]光学镜头-CN202310332404.X在审
  • 王书宪;王佳 - 诚瑞光学(常州)股份有限公司
  • 2023-03-29 - 2023-07-04 - G02B13/00
  • 本发明提供了一种光学镜头,其包括多个透镜,多个透镜包括超低反射透镜和滤光膜镀膜透镜,其中,所述超低反射透镜满足如下条件:对波长范围为380nm‑720nm的光的反射小于等于0.8%;对波长范围为420nm‑680nm的光的反射小于等于0.5%;对波长范围为380nm‑720nm的光的透过大于等于90%;对波长范围为420nm‑680nm的光的透过大于等于95%;所述滤光膜镀膜透镜满足如下条件:对波长范围为500nm‑600nm的光的透过大于等于90%;透过为50%的点对应的短波区域波长范围是400nm‑440nm;透过为50%的点对应的长波区域波长范围是660nm‑700nm。本发明提供的光学镜头可以取消掉平面玻璃滤光膜以避免玻璃滤光片易碎的问题,也减小镜头模组的总高度,而且还可以使光学镜头的透过处于合理的水平以及改善滤光膜反射太高造成的杂光现象。
  • 光学镜头
  • [发明专利]薄膜的检测方法-CN202110870592.2在审
  • 顾硕峰;孙洪福;项贤晓 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2021-07-30 - 2021-11-02 - H01L21/66
  • 本发明提供一种薄膜的检测方法,通过对外围区域的待测薄膜进行光学检测,可得到所述外围区域的待测薄膜的最大的光反射和最小的光反射;并通过比较所述外围区域的待测薄膜的最大的光反射和最小的光反射之间的差值因此,本发明通过检测待测薄膜的最大的光反射和最小的光反射,可实现检测所述待测薄膜的位置是否发生偏移,且检测精度更高,便于实时的对所述待测薄膜进行检测,从而可实时辨识薄膜的异常情况,提升产品的良
  • 薄膜检测方法

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