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- [发明专利]高集成度积层基材制造方法-CN02140388.0有效
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何昆耀;宫振越
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威盛电子股份有限公司
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2002-07-02
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2003-02-05
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H05K3/46
- 本发明公开了一种积层基材,由多个介电层以及多个线路层交互堆栈构成。其中,介电层中具有多个导通孔,而线路层通过介电层中的导通孔而彼此电性连接,本实施例的积层基材结构的特征在于介电层之间的线路层图案为与传统的孔环垫设计不同,而采取黏着力较佳的高信赖度的嵌入式结构设计无导通孔环垫本发明还公开了一种积层基材的制造方法,系先进行具有图案化线路的介电层以及具有导通孔的介电层的制作,当具有图案化线路的介电层以及具有导通孔的介电层制作完成之后,再将其同步进行对位并压合以完成积层基材的制作
- 集成度基材制造方法
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