专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种制备Zn掺杂CaZrO3-CN202010936195.6有效
  • 李春宏;刘显波;康晓丽;崔旭东 - 中物院成都科学技术发展中心
  • 2020-09-08 - 2022-05-17 - C04B35/488
  • 本发明公开了一种制备Zn掺杂CaZrO3微波介质陶瓷的方法,步骤包括:(1)将酸四丁酯溶于无水乙醇,形成酸四丁酯乙醇溶液;(2)将锌的无机盐和钙的无机盐按掺杂比例溶解于无水乙醇形成锌盐、钙盐的混合溶液;(3)按(锌+钙):的摩尔比为1:1将锌盐、钙盐的混合溶液缓慢加入酸四丁酯乙醇溶液中,并加入分散剂;(4)加入硝酸调节PH值;(5)将溶胶静置,使其充分凝胶化;(6)将凝胶与80℃烘干后,经700℃‑900℃热处理得到粉体;(7)向粉体中添加PVA进行造粒,压片机压制成型;(8)于1250℃‑1350℃烧结;(9)电性能测试。本发明降低了CaZrO3微波介质陶瓷的烧结温度,提高其电性能;使烧结温度从高于1550℃降低至1350℃。
  • 一种制备zn掺杂cazrobasesub
  • [发明专利]应用于MOS场效应晶体管的栅电介质材料氮铝酸薄膜及制法-CN03113462.9无效
  • 朱俊;刘治国 - 南京大学
  • 2003-05-15 - 2005-06-29 - H01L29/786
  • 本发明提供了一种应用于金属-氧化物-半导体场效应晶体管的高电系数栅电介质材料氮铝酸及其薄膜的制备方法。本发明的技术方案是利用脉冲激光沉积技术,在1250℃温度下,把氧化和氧化铝粉末经球磨混合后,再冷压成型成圆片然后烧结达6小时得铝酸陶瓷靶材,在生长室中引入氮气,使氮元素在薄膜中的原子百分比浓度为6%,氮原子的结合能是404.1eV,高氧化态,进而可得氮铝酸薄膜。该材料的性能指标已经达到国际上同行的高电栅电介质材料研究所达到的较高水平,同时也可能满足功耗要求不高的半导体中场效应晶体管的实际应用要求。
  • 应用于mos场效应晶体管电介质材料氮铝酸锆薄膜制法
  • [实用新型]一种干压成型氧化设备-CN202123356921.6有效
  • 王兵;孟广川;韩和根;赵东凯;郑海燕 - 山东盛太锆业资源有限公司
  • 2021-12-29 - 2022-06-14 - B02C17/16
  • 本实用新型公开了一种干压成型氧化设备,包括两个竖直设置的支撑板,所述支撑板的内部活动套设有套管,两个所述套管之间固定连接有磨筒,所述磨筒的外圈固定套设有齿环,所述磨筒的内部转动连接有第二转轴,所述第二转轴上固定连接有多个固定杆,所述固定杆远离第二转轴的一端固定连接有磨板,所述磨筒的下方设有与支撑板固定连接的双轴电机,所述双轴电机的一端输出轴固定连接有第一转轴,所述第一转轴的外部套设有两个凸轮。本实用新型将磨板和磨筒则相向运动,从而可以对氧化进行高效粉碎,而第一转轴则通过凸轮对磨筒进行振动,这样避免氧化粉碎时压实固定住,从而方便被充分粉碎。
  • 一种成型氧化锆设备

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