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[发明专利]辐射可固化喷墨油墨-CN202280011569.0在审
发明人： M·索瓦若;J·罗库费尔;M·马蒂斯 -专利权人：爱克发－格法特公司
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C09D11/101 文献下载
摘要：酚树脂和热交联剂的辐射可固化喷墨油墨，其特征在于所述酚树脂包括至少一个根据式I的结构部分，#imgabs0#其中L表示具有不大于10个碳原子的二价连接基团；n表示0或1；R1和R2相互独立地表示选自氢、经取代或未取代烷基、经取代或未取代烯基、经取代或未取代炔基、经取代或未取代烷芳基、经取代或未取代芳烷基、经取代或未取代(杂)芳基和经取代或未取代烷氧基的基团。
辐射固化喷墨油墨

[发明专利]一种用于有机电致发光材料的苯并苝衍生物-CN201510695392.2在审
发明人：龚智豪;吴凡 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2015-10-22 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： C07C211/61 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于有机电致发光材料的苯并苝衍生物，其结构为通式1所示(1)，R1-R12中有两个位置被氨基取代，其它位置分别独立地选自氢原子、卤素原子、氰基、取代或不取代的烷基、取代或不取代的环烷基、取代或不取代的烷氧基、取代或不取代的链烯基、取代或不取代的芳香烃基、取代或不取代的芳香族稠环基、取代或不取代的芳烷基、取代或不取代的丙烯氧基。
一种用于有机电致发光材料衍生物

[发明专利]有机电致发光器件和用于其的含氮化合物-CN201910309606.6在审
发明人：沈文基;朴俊河;白长烈;李孝荣;高秀秉;金荣国;黄晳焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-04-17 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： C07D403/10 文献下载
摘要：在咔唑部分中，2位、3位和7位之中的至少一个位置被取代；2位和7位中的每个位置被取代或未取代的苯基或者取代或未取代的咔唑基取代，或者不被取代或未取代的苯基或者取代或未取代的咔唑基取代，3位被取代或未取代的苯基取代，或者不被取代或未取代的苯基取代。
有机电致发光器件发射层电子传输区域空穴传输区域含氮化合物咔唑基取代氮化苯基取代第一电极苯基合物咔唑第二电极三嗪

[发明专利]四氢噻唑类衍生物用于制备放射核素内污染促排和防护药物中的应用-CN202210118392.6在审
发明人：徐文清;周晓靓;龙伟;唐海康;杨雨薇 -专利权人：中国医学科学院放射医学研究所
申请日： 2022-02-08 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： A61K31/426 文献下载
摘要：本发明提供一种四氢噻唑类化合物和/或其衍生物在制备预防或治疗放射性核素内照射造成损伤的药物、食品、保健品或化妆品中的应用，所述四氢噻唑类化合物的母核2位碳上具有各自独立的两个取代基，分别选自：氢原子、烷基、取代烷基、环烷基、取代环烷基、芳基、取代芳基、羟基、取代羟基、氨基、取代氨基、烯基、取代烯基、炔基、取代炔基、杂环基、取代杂环基、吡咯基、取代吡咯基、哌啶基、取代哌啶基、巯基、取代巯基、腈基、取代腈基、酰基、取代酰基、酰胺基、取代酰胺基、磺酰基、取代磺酰基、磺酰胺基、取代磺酰胺基。
噻唑衍生物用于制备放射核素污染防护药物中的应用

[发明专利]苯并茚并*化合物和使用其的有机发光器件-CN200980149265.5无效
发明人：西浦千晶;镰谷淳;友野宽之 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2009-11-27 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： C07C13/62 文献下载
摘要：dpa00001387693100011.GIF" wi="56" he="60" />化合物的至少一种，其中X₁-X₁₆各自独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、硝基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基、取代的氨基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环基、或者取代或未取代的芳氧基。
化合物使用有机发光器件

[发明专利]含有葡萄糖－6－磷酸脱氢酶(G6PDH)的临床诊断试剂、G6PDH的稳定化方法及G6PDH稳定剂的应用-CN200610094151.3有效
发明人：酒井康裕 -专利权人：希森美康株式会社
申请日： 2006-06-27 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： G01N33/52 文献下载
摘要：式(I)中，R1表示氢、卤素、羟基、取代或非取代低级烷基、环烷基、低级烷氧基、低级烯基、取代或非取代芳烷基、取代或非取代芳基、取代或非取代杂环基、低级烷酰基、取代或非取代芳酰基、吡啶基羰基、低级烷氧羰基、取代或非取代氨基中的任意一种。
含有葡萄糖磷酸脱氢酶 g6pdh 临床诊断试剂稳定方法稳定剂应用

[发明专利]双乙烯基吡啶荧光染料及其制备方法-CN200810040464.X无效
发明人：姜学松;印杰;村上泰治;锻治诚 -专利权人：上海交通大学;日立化成工业株式会社
申请日： 2008-07-10 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： C09B57/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种右式表示的双乙烯基吡啶荧光染料，其中R选自：取代或未取代的苯基、取代或未取代的噻吩基、取代或未取代的呋喃基、取代或未取代的吡啶基、取代或未取代的萘基或取代或未取代的蒽基，R7独立选自氢、
乙烯基吡啶荧光染料及其制备方法

[发明专利]有机发光化合物以及含有该化合物的有机发光器件-CN200610160384.9有效
发明人：孙准模;柳银善;权五炫;孙永睦;金有珍 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2006-11-15 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： C09K11/06 文献下载
摘要：R₂是氢、卤素、取代或未取代的C₁－C₁₂烷基、或取代或未取代的C₆－C₂₆芳基；R_{－C₁₂烷基；R₉到R₂₂各自独立地选自氢、取代或未取代的C₁－C₃₀烷基、取代或未取代的C₁－C₃₀烷氧基、取代或未取代的C₆－C₃₀芳基、取代或未取代的C₆－C₃₀芳烷基、取代或未取代的C₆－C₃₀芳氧基、取代或未取代的C₅－C₃₀杂芳基、取代或未取代的C₅－C₃₀杂芳烷基、取代或未取代的C₅－C₃₀杂芳氧基、取代或未取代的C₅－C₂₀环烷基和取代或未取代的}
有机发光化合物以及含有器件

[发明专利]有机发光器件和用于其中的材料-CN200880131651.7有效
发明人： B·丹德拉德;J·J·布朗;M·S·韦弗;K·西村;T·岩熊;细川地潮;M·川村;M·伊藤 -专利权人：通用显示公司;出光兴产株式会社
申请日： 2008-10-23 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：其中在阴极和阳极之间提供包含单层或多层的有机薄膜层，其中该有机薄膜层包含至少一个发光层，并且该至少一个发光层包含(a)下式(1)表示的主体材料，其中Ar¹、Ar²、Ra和Rb表示取代或未取代的苯环或者稠合芳族烃基，所述稠合芳族烃基选自取代或未取代萘环、环、取代或未取代荧蒽环、三亚苯环、取代或未取代菲环、取代或未取代苯并菲环、取代或未取代二苯并菲环、取代或未取代苯并三亚苯环、取代或未取代苯并环、取代或未取代苉环和取代或未取代苯并荧蒽环；以及(b)至少一种磷光材料包含磷光有机金属配合物，该配合物具有下式表示的下列部分化学结构之一所表示的取代的化学结构：其中各个R独立地为氢或具有1-3个碳原子的烷基取代基，并且其中该式的至少一个环具有一个或多个所述烷基取代基。
有机发光器件用于中的材料

[发明专利]新颖苯并噻吩衍生物-CN01809656.5无效
发明人：岛田信一;野本信;奥江雅之;木村贤一;中村纯二;池田善和;高田健子 -专利权人：第一制药株式会社
申请日： 2001-05-18 - 公布日： 2003-07-09 - 主分类号： C07D409/04 文献下载
摘要：其中Ar是取代或未取代的芳族杂环基；R是羟基、低级烷基、低级烷氧基、卤素原子、羧基、低级烷氧基羰基、氨基甲酰基、氨基、被一个或多个选自低级烷基和低级酰基的取代基所取代或未取代的氨基、氰基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的苯氧基、取代或未取代的苯基低级烷基、取代或未取代的苯基低级烷氧基、或取代或未取代的芳族杂环基。
新颖噻吩衍生物

[发明专利]作为IV型磷酸二酯酶抑制剂的1－芳基－1,8－二氮杂萘－4－酮衍生物-CN98801295.2无效
发明人：岛本哲男;井上英和;林靖浩 -专利权人：第一三得利制药株式会社
申请日： 1998-08-06 - 公布日： 2004-07-21 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：本发明提供了式(I)1-芳基-1，8-二氮杂萘-4-酮衍生物或其盐或溶剂化物，其中R¹表示取代或未取代的芳基或取代或未取代的杂芳基，R²，R³，和R⁴独立地表示氢原子，取代或未取代的低级烷基，或卤原子；X表示基团NR⁵R⁶或基团OR⁷，其中R⁵和R⁶独立地表示氢原子，取代或未取代的低级烷基，取代或未取代的环烷基，取代或未取代的芳基，或取代或未取代的杂芳基，以及R⁷表示氢原子，取代或未取代的低级烷基，或取代或未取代的环烷基。
作为 iv 磷酸二酯酶抑制剂芳基二氮杂萘衍生物

[发明专利]制备吲哚萘并吡喃的方法-CN201880100391.0在审
发明人： R·斯泰希奇;R·W·沃尔特斯 -专利权人：光学转变有限公司
申请日： 2018-12-21 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C07D213/81 文献下载
摘要：的核心骨架结构的合成中间体：其中m是0至4，n是0至4，R1和R2各自独立地是羟基、氰基、(甲基)丙烯酸酯、氨基、卤基、取代或未取代的烷基、硼酸酯、硼酸、聚醚、聚酯、聚碳酸酯、聚氨酯、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环芳基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的烷硫基、取代或未取代的芳硫基、酮、醛、酯、羧酸、羧酸酯、酰胺、碳酸酯、氨基甲酸酯、脲、硅氧烷、烷氧基硅烷、或聚硅氧烷；R3是取代或未取代的2‑吡啶基或取代或未取代的2‑喹啉基；并且R4是氢、取代或未取代的烷基、烷氧基甲基、取代或未取代的甲硅烷基、或酰基。
制备吲哚方法

[发明专利]色氨酸衍生物及其用途-CN200680026616.X有效
发明人：染井正德;服部淳彦;铃木信雄 -专利权人：染井正德;服部淳彦;铃木信雄
申请日： 2006-06-29 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： C07D209/30 文献下载
摘要：(式中，X表示卤原子；R¹表示氢原子、取代或非取代的C_1－6－烷基、取代或非取代的C_2－6－烯基、取代或非取代的C_2－6－炔基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基、取代或非取代的酰基、取代或非取代的芳基磺酰基、取代或非取代的C_1－6－烷基磺酰基、取代或非取代的C_2－7－烷氧羰基、或羟基；R²表示取代或非取代的C_1－21－烷基；R³、R⁵及R⁶相同或不同，表示氢原子或卤原子；R⁴表示氢原子、或者取代或非取代的C_1－6－烷基；R⁷表示氢原子、或者取代或非取代的C_1－21－烃基。)
色氨酸衍生物及其用途

[发明专利]大环内酯抗感染药物-CN00809071.8无效
发明人： D·T·W·褚;G·W·阿什利 -专利权人：高山生物科学股份有限公司
申请日： 2000-04-14 - 公布日： 2002-12-11 - 主分类号： C07H17/08 文献下载
摘要：式(1)、(2)或(3)的化合物或其10,11－脱水形式,其中Ra是H;取代或未取代的烷基(1－10C);取代或未取代的链烯基(2－10C);取代或未取代的炔基(2－10C);取代或未取代的芳基(4－14C);取代或未取代的芳烷基(5－20C);或ORa被H替换;Rb是H或卤素;Rc是H或保护基团;Rd是甲基;未取代的烷基(3－10C);取代的烷基(1－10C);取代或未取代的链烯基(2－10C);取代或未取代的炔基(2－10C);取代或未取代的芳基(4－14C);取代或未取代的芳烷基(5－20C);取代或未取代的芳基链烯基(5－20C);取代或未取代的芳基炔基(5－20C);取代或未取代的酰氨基芳烷基(5－20C);取代或未取代的酰氨基芳基链烯基(5－20C);或取代或未取代的酰氨基芳基炔基(5－20C);Re是H或保护基团;L是亚甲基或羰基;T是－O－、－N(R)－、－N(OR)－、－N(NHCOR)－、－N
内酯感染药物

[发明专利]多元稠环化合物及其在有机电致发光器件中的应用-CN202010725933.2在审
发明人：刘叔尧;孙恩涛;方仁杰 -专利权人：北京鼎材科技有限公司
申请日： 2020-07-24 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： C07D487/04 文献下载
摘要：>1‑Y4、Z1‑Z3各自独立为CR或N；L为单键、取代或未取代的C6‑C30的亚芳基、或者取代或未取代的C3‑C30的亚杂芳基；Ar为取代或未取代C6‑C50的芳基、取代或未取代的C3‑C50的杂芳基、取代或未取代的三苯氧磷基、或者被C6‑C50的芳基取代的羰基；R各自独立地为H、氘、卤素、氰基、硝基、取代或未取代的C1‑C30的烷基、取代或未取代的C6‑C50的芳基、取代或未取代的C3‑C50的杂芳基、取代或未取代的C3‑C30的环烷基、取代或未取代的C3‑C30的烷氧基、取代或未取代的C6‑C50的芳基氨基、或者取代或未取代的C3‑C50的杂芳基氨基。
多元环化及其有机电致发光器件中的应用