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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]主图案和切割图案的布局优化-CN201410017755.2有效
发明人：张世明;吕奎亮 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种更改部件图案的方法，包括：从设计图案中提取主图案和切割图案，以及如果任一部件图案违反了布局规则，则更改主图案和切割图案中的至少一个，其中，按照在形成主图案的过程中改进工艺窗口的一组工艺指南布置主图案本发明还公开了主图案和切割图案的布局优化。
图案切割布局优化

[发明专利]显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法-CN202310372114.8在审
发明人：今敷修久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-03-07 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种显示装置制造用光掩模，其能够在被转印体上稳定地形成微细的孔图案。该显示装置制造用光掩模构成为在透明基板上具有转印用图案，转印用图案包括：由四边形的透光部构成的主图案；由配置于主图案的周边的相移部构成的辅助图案；以及形成于主图案和辅助图案以外的范围的低透光部，当在主图案的周边定义包围主图案的、规定宽度的正八边形带时，辅助图案构成正八边形带的至少局部，将转印用图案所包括的多个主图案之一设为第一主图案，与第一主图案不同的第二主图案配置于接近第一主图案的位置，在构成包围第一主图案的正八边形带的八个区块中的、面对第二主图案侧的至少一个区块具有缺失的辅助图案配置于第一主图案的周边。
显示装置制造用光以及方法

[发明专利]显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法-CN201810185361.6有效
发明人：今敷修久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-03-07 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种显示装置制造用光掩模，其能够在被转印体上稳定地形成微细的孔图案。该显示装置制造用光掩模构成为在透明基板上具有转印用图案，转印用图案包括：由四边形的透光部构成的主图案；由配置于主图案的周边的相移部构成的辅助图案；以及形成于主图案和辅助图案以外的范围的低透光部，当在主图案的周边定义包围主图案的、规定宽度的正八边形带时，辅助图案构成正八边形带的至少局部，将转印用图案所包括的多个主图案之一设为第一主图案，与第一主图案不同的第二主图案配置于接近第一主图案的位置，在构成包围第一主图案的正八边形带的八个区块中的、面对第二主图案侧的至少一个区块具有缺失的辅助图案配置于第一主图案的周边。
显示装置制造用光以及方法

[发明专利]产生掩模数据的方法、制造掩模的方法和曝光方法-CN201110333535.7有效
发明人：石井弘之;辻田好一郎 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-10-28 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：掩模包括用于解析将形成在衬底上的目标图案的主图案和不进行解析的辅助图案。设置主图案和辅助图案的参数的值。计算在通过投射光学系统投射由主图案和辅助图案的参数值确定的主图案和辅助图案的情况下形成的图像。基于通过修改主图案和辅助图案的参数值而执行的计算的结果，确定主图案和辅助图案的参数值，以产生包括所确定的主图案和辅助图案的掩模的数据。
产生数据方法制造曝光

[发明专利]像素结构-CN201811031369.3有效
发明人：龚晏瑩;王奕筑;郑伟成 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2018-09-05 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： G02F1/1343 文献下载
摘要：像素电极包含第一主图案、第二主图案、多个分支图案与外围图案。第一主图案的尾端及第二主图案的尾端与部份外围图案连接。第一主图案与第二主图案交错以区分出至少四个区域。多个分支图案分别位于至少四个区域。位于各区域的各分支图案的一端与第一主图案及第二主图案其中至少一者连接。位于各区域的部份多个分支图案的另一端与部份外围图案之间具有多个宽度的多个第一狭缝。任二相邻的多个分支图案相分隔开来。
像素结构

[发明专利]像素结构-CN202111213833.2有效
发明人：龚晏瑩;王奕筑;郑伟成 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2018-09-05 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G02F1/1343 文献下载
摘要：像素电极包含第一主图案、第二主图案、多个分支图案与外围图案。该第一主图案与该第二主图案交错以区分出至少四个区域，该些分支图案分别位于该些区域，位于各该区域的各该分支图案的一端与该第一主图案及该第二主图案其中至少一者连接，任二相邻的该些分支图案相分隔开来，其中，最邻近于该第一主图案与该第二主图案其中至少一者的该些分支图案的另一端与该外围图案之间具有多个第一狭缝，而其余的该些分支图案的另一端连接该外围图案。
像素结构

[发明专利]输入感测单元以及包括其的显示设备-CN201910864606.2在审
发明人：金起旭;金光民;金阳完;罗志洙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：所述输入感测单元包括：多个第一电极，每个第一电极包括多个第一主图案以及设置在第一主图案之间以连接彼此相邻的两个第一主图案的多个第一连接图案；多个第二电极，每个第二电极包括多个第二主图案以及设置在第二主图案之间以连接彼此相邻的两个第二主图案的多个第二连接图案每个第三电极包括：多个第三主图案，在平面图中与第二主图案分隔开；以及多个第三连接图案，设置在第三主图案之间以连接彼此相邻的两个第三主图案，并且在平面图中与第一连接图案分隔开。
输入单元以及包括显示设备

[实用新型]一种新型多主栅电池印刷图案-CN201920418799.4有效
发明人：杨飞飞;张雁东;崔龙辉;梁玲 -专利权人：山西潞安太阳能科技有限责任公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： H01L31/05 文献下载
摘要：本实用新型涉及太阳能电池生产领域，一种新型多主栅电池印刷图案，由主栅和细珊构成，且主栅和细珊垂直相交，主栅有12根，每根主栅长度为154.78mm，主栅线间距为12.4mm，主栅线宽为0.1mm，每根主栅上有12个探针测试点，每两个探针测试点之间相距12.78mm，主栅在每个探针测试点与一根细珊垂直相交；细珊数量为110根，每根细珊的长为154.75mm，线间距为1.42mm，细珊宽度为25‑29μm，细珊由实心细珊和镂空细珊间隔相错组成
主栅探针测试垂直相交主栅线本实用新型太阳能电池印刷图案镂空相错电池相距

[发明专利]小型化抗金属超高频电子标签-CN201110422151.2在审
发明人：孙向荣 -专利权人：江苏安智博电子科技有限公司
申请日： 2011-12-16 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： G06K19/077 文献下载
摘要：本发明提供了一种小型化抗金属超高频电子标签50，其包含：主天线电介质部件51、辅天线电介质部件52、天线地板53、导电连接部件54、主天线图案55、辅天线图案56、及集成电路芯片57；天线地板53位于标签的底部；主天线图案55中有开缝，主天线图案55位于主天线电介质部件51上，主天线图案55通过导电连接部件54和天线地板53导通；辅助天线图案56位于辅天线电介质部件52上，并处于主天线图案55下方，辅助天线图案56通过主天线电介质材料51与主天线图案55相隔离；集成电路芯片57安装于主天线图案55上；集成电路芯片57、主天线图案55和导电连接部位54，及天线地板53一起构成一个闭环。
小型化金属超高频电子标签

[发明专利]掩模的布图方法-CN200710185129.4无效
发明人：李相熙;曹甲焕 -专利权人：东部高科股份有限公司
申请日： 2007-10-30 - 公布日： 2008-11-05 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种掩模的布图方法，包括为一层建立虚设图案抑制区域和单一类型的虚设图案。形成其中形成有第一主图案的单元。在主芯片布图中形成第二主图案，并且将该单元插入该主芯片中。基于第一主图案和第二主图案，建立虚设图案抑制区域。然后，在整个主芯片布图上形成单一类型的虚设图案。移除与虚设图案抑制区域相交的虚设图案。
方法

[发明专利]半导体装置-CN202210242761.2在审
发明人：三上和人 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L25/07 文献下载
摘要：半导体装置(101)具有：MOSFET芯片(5)，其设置于图案(31)之上，自身的漏极电极及源极电极分别与图案(31)及图案(32)电连接；SBD芯片(6)，其设置于图案(33)之上，自身的阴极电极及阳极电极分别与图案(33)及图案(34)电连接；漏极主端子(7)，其与图案(31)连接；源极主端子(8)，其与图案(32)连接；阴极主端子(9)，其与图案(33)连接；以及阳极主端子(10)，其与图案(34)连接。漏极主端子(7)与阴极主端子(9)及源极主端子(8)与阳极主端子(10)的至少一者未电连接。
半导体装置

[实用新型]基板组件、显示面板以及显示装置-CN202222875357.7有效
发明人：谭桂财;康报虹 -专利权人：惠科股份有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请提供一种基板组件，基板组件包括衬底及图案层，图案层包括多个图案区，图案区包括主图案区、多个第一对位标记及多个第二对位标记，多个所述主图案区中不同的主图案区由不同的曝光机形成，多个第一对位标记由同一曝光机形成，主图案区与第二对位标记之间保持预设间距，每个图案区的第一对位标记与第二对位标记相对准，以限制主图案区在衬底上的位置。因此，通过多个所述主图案区中不同的主图案区由不同的曝光机以提高产能。通过第一对位标记与第二对位标记的相对准以限制主图案区在衬底上的位置以提高主图案区在衬底上的对位精准度及相邻的主图案区的对位精准度，进而提高了基板组件的良率。本申请还提供一种显示面板以及一种显示装置。
组件显示面板以及显示装置

[发明专利]虚拟结构和方法-CN201210116984.0有效
发明人：弗兰克·许布英格;科斯廷·肯默;斯特芬·罗滕哈伊泽尔 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2012-04-19 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：制造半导体器件的方法包括：在基板上形成材料层；使用第一主图案来图案化第一半球区域；使用第二主图案来图案化第二半球区，其中，第一主图案与第二主图案不同。所述方法还包括在第一半球区域中引入第一虚拟图案，从而使得第一半球区域中第一主图案和第一虚拟图案的第一侧壁区表面密度与第二半球区中第二主图案的第二侧壁区表面密度基本相同。
虚拟结构方法

[发明专利]半导体装置、制造半导体装置的方法以及检查错误的方法-CN202110480740.X在审
发明人：金在泽;郑蕙英 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： H01L23/528 文献下载
摘要：主虚设图案和测试虚设图案可以形成在下部布线结构上。主虚设图案可以包括通孔图案和宽度比通孔图案的宽度更宽的布线图案。测试虚设图案可以与主虚设图案间隔开不小于临界距离。测试虚设图案可以具有与通孔图案的宽度基本相同的宽度。测试虚设图案可以具有与主虚设图案的高度基本相同的高度。然后可以测试测试虚设图案以基于测试虚设图案的错误来预测主虚设图案的错误。
半导体装置制造方法以及检查错误

[发明专利]线圈部件及制造线圈部件的方法-CN201210526111.7有效
发明人：刘永锡;安永圭;金容锡;李相汶;郭正福;许康宪;魏圣权 -专利权人：三星电机株式会社
申请日： 2012-12-07 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： H01F17/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种线圈部件及制造线圈部件的方法，该线圈部件包括：下磁体；主下部图案和次下部图案，以螺旋形状相互平行地形成在下磁体上；下绝缘层，覆盖主下部图案和次下部图案；主上部图案和次上部图案，主上部图案和次上部图案分别电连接至主下部图案和次下部图案，并且主上部图案和次上部图案以螺旋形状相互平行地形成在下绝缘层上，以与主下部图案和次下部图案相对应；以及，上磁体，形成在主上部图案和次上部图案上，其中，主上部图案和次上部图案具有在平面上与主下部图案和次下部图案相交的部分
线圈部件制造方法

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