专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氧化纳米阵列电致变色薄膜及其制备方法-CN201310324918.7有效
  • 王秀丽;蔡国发;周鼎;谷长栋;涂江平 - 浙江大学
  • 2013-07-30 - 2013-11-20 - C01G41/02
  • 本发明公开了一种氧化纳米阵列电致变色薄膜及其制备方法,包括:将白酸溶于过氧化氢水溶液,加水配制成含浓度为1~5mol/L的过氧化酸溶液;将过氧化酸溶液涂在清洁干净的导电基底的导电面上,得到覆盖有晶种层的导电基底;将盐溶于醇中,形成前躯体溶液,将覆盖有晶种层的导电基底固定于反应釜中,将前躯体溶液加入反应釜中,在150~250℃反应8~16h,取出后再在350~450℃热处理1~3h。该制备方法制备的薄膜具有纳米团簇、纳米树或纳米线阵列形貌,电连接性好,薄膜具有光谱调节范围大、响应速度快和循环寿命长的优点,同时,制备工艺控制方便,制造成本较低,可以大面积生产,易于实现工业化。
  • 一种氧化钨纳米阵列变色薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种氧化晶体晶面可控生长的制备方法-CN201110162483.1有效
  • 刘岗;谢英鹏;成会明 - 中国科学院金属研究所
  • 2011-06-14 - 2012-10-10 - C30B29/16
  • 本发明涉及氧化晶体领域,具体为一种氧化晶体晶面可控生长的制备方法,通过湿化学过程以硼化为前驱体水热生长晶面暴露比例不同氧化晶体,能够解决针对不同的反应体系提供具有不同的氧化还原能力的氧化光催化剂的问题将前驱体装入有硝酸水溶液的反应釜中,经加热处理,可得到{002}晶面占优的氧化晶体。将前驱体装入有氢氟酸水溶液或氢氟酸乙醇溶液或氢氟酸水、乙醇混合溶液的反应釜中,经加热处理,可得到氢青铜立方晶体,氢青铜晶体经空气中热处理,可得到{002}、{200}、{020}晶面比例相等的氧化晶体从而,制备出具有规则形貌的、晶面比例不同的、具有很好光解水产氧能力的氧化晶体。
  • 一种氧化钨晶体可控生长制备方法
  • [发明专利]一种氧化多电阻态调控方法-CN202310599969.4在审
  • 于浦;张帆 - 清华大学
  • 2023-05-25 - 2023-08-18 - H10N70/00
  • 本申请提供了一种氧化多电阻态调控方法,所述方法包括:将氧化置于包括氢气的气体环境中,所述氢气的含量为3vol.%至100vol.%;向针尖状电极施加不同的电压与所述氧化形成不同的偏压;所述氧化与所述针尖状电极接触,在氧化中引入氢离子或者将氧化中的氢离子移出。氧化是一种绝缘的氧化物,由于电子掺杂作用,随着注入氢离子的浓度或计量提高,其电阻降低。本申请通过控制针尖状电极上电压正负、大小和反应时间,可以调节氧化中的氢离子浓度,进而精准控制氧化的电阻,实现多阻态的调控。
  • 一种氧化钨电阻调控方法
  • [实用新型]用于室温检测超低浓度氮氧化物气体的气敏元件-CN201220729968.4有效
  • 胡明;李明达;马双云;闫文君;曾鹏 - 天津大学
  • 2012-12-26 - 2013-07-17 - G01N27/00
  • 本实用新型公开了一种用于室温检测超低浓度氮氧化物气体的气敏元件,硅基片衬底为n型单晶硅基片,硅基片衬底的上面设置有多孔硅层,该多孔硅层的平均孔径为170.28nm,厚度为68.78μm,多孔硅层的上面设置有氧化薄膜薄膜厚度为35nm,所述多孔硅层与氧化薄膜形成多孔硅基氧化纳米复合结构;氧化薄膜的上表面设置有铂电极正极和铂电极负极。本实用新型在室温下即可对超低浓度氮氧化物气体具有较高的响应值和很好的选择性,响应/恢复时间短,稳定性好,且体积小巧、结构简单、工艺成熟、价格低廉,有望在气敏传感器领域获得推广应用。
  • 用于室温检测浓度氧化物气体元件
  • [发明专利]五价金属元素掺杂金属氧化薄膜的制备方法及应用-CN202210346612.0在审
  • 王朋;刘粲;魏亚菊;林宇昊;吴越;吴小平;崔灿 - 浙江理工大学
  • 2022-03-31 - 2022-07-29 - H01L21/363
  • 本发明涉及五价金属元素掺杂金属氧化薄膜的制备方法及应用,方法包括:一、将金属氧化物粉末和五价金属元素氧化物研磨混合,并置于蒸发舟中,其中,五价金属元素氧化物包括五氧化二钒粉末、氧化铌粉末或氧化钽粉末,金属氧化物粉末包括氧化粉末或氧化钼粉末;二、将衬底插入热蒸发设备腔体顶部的样品槽中;、将腔体抽真空,直到真空度小于10‑3Pa;四、缓慢增加电流到90A后,打开挡板开始蒸镀,蒸镀一定厚度后关闭挡板,然后关闭电源,自然冷却后取出样品,即可得到五价金属元素掺杂金属氧化薄膜,五价金属元素掺杂金属氧化薄膜包括钒、铌或钽掺杂的氧化薄膜,以及钒、铌或钽掺杂的氧化薄膜有效减少氧化钼或氧化中的氧空位。
  • 金属元素掺杂金属氧化物薄膜制备方法应用

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