专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]线供给装置以及纺纱机械-CN201510881692.X在审
  • 秋元理宏;泽田晴稔 - 村田机械株式会社
  • 2015-12-03 - 2016-07-27 - D02G3/36
  • 种芯线供给装置以及纺纱机械,芯线供给装置(100)具备多个第线卷装保持部(51)和多个第二芯线卷装保持部(61)。多个第线卷装保持部(51)沿第线(L1)排列,分别保持第线卷装(CP1)。多个第二芯线卷装保持部(61)沿与第线(L1)平行的第二线(L2)排列,分别保持第二芯线卷装(CP2)的第线(L1)相比第二线(L2)位于上侧。在从第线(L1)和第二线(L2)排列的方向观察的情况下,多个第线卷装保持部(51)的各个与多个第二芯线卷装保持部(61)的各个交替配置。
  • 供给装置以及纺纱机械
  • [发明专利]图案的形成方法-CN201310009256.4有效
  • 王新鹏 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2013-01-10 - 2014-07-16 - H01L21/308
  • 种图案的形成方法,包括:提供半导体衬底;在衬底上形成包括多个等间距、平行排列线的第图案,第图案的孔距为最终形成图案孔距的四倍;在第线延伸方向的两相对侧壁形成第二线,其中,第二线的线宽等于第线的线宽,第二线的材料与第线的材料不同;在第二线与第线相对且远离第线的侧壁形成第三线,第三线的线宽与第线的线宽相同;在第三线与第二线相对且远离第二线的侧壁外延生长形成第四线,第四线的线宽与第线的线宽相同,第四线的材料与第三线的材料不同;去除第线、第三线,最终形成的图案包括第二线、第四线。第二线、第四线构成的图案具有均匀排列密度和较佳的线宽,以该图案定义并形成的半导体器件性能良好。
  • 图案形成方法
  • [发明专利]线栅偏光片及其制造方法-CN202010620071.7在审
  • 张笑;刘永兴;韩佳慧;黄华;郭康;谷新 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2020-06-30 - 2021-12-31 - G02F1/1335
  • 本公开实施例提供了线栅偏振片及其制造方法,该线栅偏振片包括:衬底;形成于衬底之上的第线栅,第线栅包括相互平行且等间隔排列的多个第线栅反射条;及形成于第线栅的远离衬底的侧的第二线栅,第二线栅包括相互平行且等间隔排列的多个第二线栅反射条;第二线栅反射条与第线栅反射条一一对应,第二线栅反射条在衬底上的正投影落入对应的第线栅反射条在衬底上的正投影内,第二线栅反射条的线宽小于第线栅反射条的线宽,第二线栅反射条的线距大于第线栅反射条的线距本公开提供的线栅偏振片及其制造方法,能够保证线栅偏振片具有高偏振度和高透过率的特性,且工艺简化,提高显示器件的光学性能。
  • 一种偏光及其制造方法
  • [发明专利]图案的形成方法-CN201310007114.4有效
  • 王新鹏 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2013-01-08 - 2016-11-30 - H01L21/3105
  • 种图案的形成方法,包括:在衬底上形成有膜层、位于膜层上的刻蚀阻挡层;在刻蚀阻挡层上形成包括多个等间距、平行排列线的第图案;在第线的侧壁形成第二线,其中,第二线线宽等于第线的线宽,第二线材料与第线不同;在第二线的侧壁形成第三线,第三线的线宽与第线相同;在第三线的侧壁外延生长第四线,第四线的线宽与第线相同,第四线的材料与第三线不同;去除未被第线、第二线、第三线、第四线覆盖的刻蚀阻挡层,暴露膜层;在膜层上外延生长第五线,第五线的材料与第四线的材料不同;去除第二线、第四线,最终形成的图案包括第线、第三线和第五线。图案具有均匀排列密度和较佳线宽,以该图案形成的半导体器件性能良好。
  • 图案形成方法
  • [实用新型]丝网布及丝印模版-CN201520598545.7有效
  • 章征国 - 浙江硕克科技有限公司
  • 2015-08-10 - 2016-01-06 - B41F15/36
  • 本实用新型提供种丝网布及丝印模版,其中丝网布包括纵横排列的第线条和第二线条,所述第线条等间距连续排列,所述第二线条在预留空间内采用跳线编织方式排列以形成至少跳线区,每跳线区的宽度均在60~500μm之间,所述丝网布在第线条方向上的目数以及在第二线条方向上的目数均在150目~700目之间,所述第线条和所述第二线条的线径均在10~30μm之间。本实用新型弥补了现有技术中采用现有的丝印模版印刷时容易在太阳能正极副栅线开口处形成网结导致无法满足超细副栅线印刷的不足,能够实现太阳能正极副栅线开口处无网结,从而实现超细副栅线印刷。
  • 丝网丝印模版
  • [发明专利]电力接收装置、电力输送装置和电力输送系统-CN201280051760.4无效
  • 市川真士;中村达;石田将也;渡边俊明;天野也寸志 - 丰田自动车株式会社
  • 2012-10-12 - 2014-06-25 - B60L11/18
  • 种电力接收装置,包括以非接触方式从设置在外部的电力输送器接收电力的电力接收器。电力接收器包括通过以节距(P1)缠绕第线圈绕线(45)而形成的第线圈。第线圈(11)包括第部分(80a)和以所述节距(P1)相邻于第部分(80a)的第二部分(80b)。第部分(80a)和第二部分(80b)排列排列方向(AD1)上。第线圈绕线(45)的垂直于第线圈绕线(45)的延伸方向的截面构造为使得第投影线(PD1)的长度大于第二投影线(PD2)的长度,第投影线通过将所述截面从所述排列方向(AD1)投影到垂直于排列方向(AD1)的第假想平面(VP1)上而获得,第二投影线通过将所述截面从垂直于排列方向(AD1)的方向(VD1)投影到垂直于第假想平面(VP1)的第二假想平面(VP2)上而获得。
  • 电力接收装置输送系统
  • [发明专利]半导体元件及其制备方法-CN202210315552.6在审
  • 蔡易廷;饶瑞修 - 南亚科技股份有限公司
  • 2022-03-28 - 2023-03-07 - H01L23/48
  • 本公开提供种半导体元件及其制备方法。该半导体元件包括基底;置于该基底上方的位元线结构,包括与方向平行排列线部,以及与该第线部的端相连,并与该第方向垂直的第二方向平行排列第二线部;位元线顶触区,包括置于该第线部的该第端上,并与该第方向平行排列条部,以及与该第条部的端相连,置于该第二线部上,并与该第二方向平行排列第二条部;以及与该第位元线顶触区电性耦合的顶导电层。
  • 半导体元件及其制备方法
  • [实用新型]种线缆配线装置-CN202223353535.6有效
  • 林兰;邱玮炜;王佳伟;郑宗风;刘良清 - 锐捷网络股份有限公司
  • 2022-12-14 - 2023-07-21 - H02G3/08
  • 本申请公开的种线缆配线装置包括壳体、线缆连接器、第线缆和第二线缆,壳体具有容纳腔,容纳腔包括第线缆走线区和第二线缆走线区,第线缆走线区和第二线缆走线区相互连通,线缆连接器设置于第二线缆走线区;壳体与第线缆走线区相对的区域设有进线孔,壳体设有多个理线齿,相邻的两个理线齿之间形成第穿线口;第线缆从进线孔伸入第线缆走线区,第二线缆的从第穿线口伸入第二线缆走线区,第线缆与第二线缆通过线缆连接器连接。本申请的线缆配线装置将线缆进行分区设置,使装置内部线缆排列整齐,方便维护。
  • 一种线缆线装
  • [发明专利]发光元件的制造方法-CN201810993769.6有效
  • 山口一树;竹田阳树;住友新隆 - 日亚化学工业株式会社
  • 2018-08-29 - 2023-06-13 - H01L21/268
  • 本发明提供种能够提升生产性的发光元件的制造方法。根据实施方式,发光元件的制造方法包括激光照射工序和分离工序。激光照射工序对具有第面的衬底照射激光。激光照射工序包括沿多个第线以激光进行扫描的第照射工序和沿多个第二线以激光进行扫描的第二照射工序。多个第线沿第方向延伸且沿第二方向排列。多个第二线沿第二方向延伸且沿第方向排列。多个第线的第间距大于多个第二线的第二间距。第照射工序中的激光的照射的间距为2.0μm以下。分离工序沿多个第二线将晶片分离成多个条后,沿多个第线将条分离成多个发光元件。
  • 发光元件制造方法

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