[实用新型]一种磁控溅射仪有效
| 申请号： | 202320224610.4 | 申请日： | 2023-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN219195112U | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 吴向方;梁玉生;吴煦;梁家禄;蔡豫;杨涛;母立民 | 申请（专利权）人： | 鹏城微纳技术（沈阳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110000 辽宁省沈阳市*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种磁控溅射仪，涉及磁控溅射镀膜技术领域，可以包括真空腔体、门盖、分子泵、机械泵、基片台和至少一个磁控溅射靶。其中，真空腔体开设有工艺腔和与工艺腔相连通的开口，真空腔体上还开设有进气口和出气口与工艺腔相连通。门盖盖设于开口处，且与工艺腔的开口活动相连。分子泵设置于真空腔体的外壁下方，分子泵具有第一进风口和第一出风口，第一进风口通过第一管路与真空腔体相连通。机械泵具有第二进风口和第二出风口，分子泵的第一出风口通过第二管路与机械泵的第二进风口相连通，机械泵的第二进风口还通过第三管路与工艺腔相连通。本实用新型用于镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 | ||
【主权项】：
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