[发明专利]一种光电阴极及其制备方法和应用在审
申请号: | 202310228803.1 | 申请日: | 2023-03-03 |
公开(公告)号: | CN116230469A | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 朱京涛;屠洛涔 | 申请(专利权)人: | 宏策(浙江)半导体有限公司 |
主分类号: | H01J1/34 | 分类号: | H01J1/34;H01J9/12;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/58;C23C14/35 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 刘奇 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴市海宁市海昌街*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明属于光电阴极技术领域,具体涉及一种光电阴极及其制备方法和应用。本发明提供了一种光电阴极,包括铝基体和依次层叠设置在所述铝基体表面的金层和过渡金属氮化物层。本发明通过在铝基体表面设置金层和过渡金属氮化物层,能够防止光电阴极在等离子诊断过程中发生碳污染和氧污染;同时金层和过渡金属氮化物层的电阻率非常小,和铝基体共同使用不会影响铝基体的转换效率;同时过渡金属氮化物层的结构稳定,熔点和硬度高,能够很好的抵御高速等离子的冲击,防止等离子体对柔性铝基体的破坏,从而在不影响量子转换效率的前提下提高光电阴极的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 光电 阴极 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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