[实用新型]气体处理装置和基片处理装置有效
申请号: | 202221337643.1 | 申请日: | 2022-05-31 |
公开(公告)号: | CN218485582U | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
发明(设计)人: | 津贺尾圭祐;青木大辅 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | B01D53/18 | 分类号: | B01D53/18;H01L21/67 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;刘芃茜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本实用新型提供能够减少溶解液的使用量的气体处理装置和基片处理装置。气体处理装置包括管道、分隔板和液供给部。管道在内部具有供气体通过的流路。分隔板是将流路分隔为多个空间的分隔板,由能够透过气体且能够保持液体的多孔材料形成。液供给部对分隔板供给能够溶解气体中包含的对象成分的溶解液。并且,气体处理装置使通过流路的气体与被保持在分隔板中的溶解液接触。 | ||
搜索关键词: | 气体 处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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