[发明专利]一种垂直腔面发射激光器在审

专利信息
申请号: 202210447755.0 申请日: 2022-04-26
公开(公告)号: CN114784626A 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 李含轩;李辉杰;李善文;牛守柱;颜虎;何志芳 申请(专利权)人: 常州纵慧芯光半导体科技有限公司
主分类号: H01S5/34 分类号: H01S5/34;H01S5/343;H01S5/183
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 康欢欢
地址: 213000 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种垂直腔面发射激光器,该垂直腔面发射激光器包括:依次层叠设置的衬底、缓冲层、第一反射层、有源层和第二反射层;所述缓冲层、所述第一反射层、所述有源层和所述第二反射层中的至少一层包括应力补偿层;在室温下,所述应力补偿层的材料的晶格常数小于所述衬底的材料的晶格常数。本发明提供了垂直腔面发射激光器,可以降低垂直腔面发射激光器的翘曲度,进而降低垂直腔面发射激光器破片率,提高垂直腔面发射激光器的合格率。
搜索关键词: 一种 垂直 发射 激光器
【主权项】:
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