[发明专利]差异测量系统在审
| 申请号： | 202180022761.5 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN115335773A | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 胡贝特·马蒂厄·理查德·斯泰尼斯;P·阿加沃尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M3/26;G01F1/88 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于测量第一目标的性质与第二目标的性质之间的差异的系统，系统包括第一构件和第二构件，其中第一构件包括第一图案，并且第一构件的旋转速度被配置为基于第一目标的性质；并且第二构件包括第二图案，其中，第二构件的旋转速度被配置为基于第二目标的性质，进一步其中第一图案和第二图案具有角度变化，并且被配置为当第一构件和第二构件在其旋转速度上具有相对差异时通过其相互作用生成干涉图案，干涉图案指示该差异的幅度。 | ||
| 搜索关键词： | 差异 测量 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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