[发明专利]基于深度学习视差预测的合成孔径聚焦成像方法在审

专利信息
申请号: 202111569935.8 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114387327A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 裴炤;苟元帅;张艳宁;王淼;马苗;唐明 申请(专利权)人: 陕西师范大学
主分类号: G06T7/593 分类号: G06T7/593;G06T7/80;G06T5/00;G06T5/30;G06V10/25;G06V10/762;G06V10/82;G01S13/90;G06K9/62
代理公司: 西安永生专利代理有限责任公司 61201 代理人: 申忠才
地址: 710062 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种基于深度学习视差预测的合成孔径聚焦成像方法,由获取相机参数、预测场景视差图、确定待聚焦目标的深度、生成聚焦在深度L的合成孔径图像步骤组成。本发明以相机阵列采集的一组图像为输入,采用视差估计方法估计出这一组输入图像中参考图像的视差图,用聚类方法自动识别所在的区域并使用形态学处理,对聚类后的图像进行优化,根据视差与深度的关系得到感兴趣目标所在的深度,采用合成孔径成像的方法,快速地聚焦到目标;在获取感兴趣目标的三维信息,快速地聚焦目标,提高了运算速度、缩短了计算时间、降低了合成孔径聚焦的成本。本发明具有成像次数少、运算速度快、计算时间短、成本低等优点,可在合成孔径成像中推广应用。
搜索关键词: 基于 深度 学习 视差 预测 合成 孔径 聚焦 成像 方法
【主权项】:
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