[发明专利]一种基于光栅干涉仪的X射线多模式成像新方法有效

专利信息
申请号: 202110912294.5 申请日: 2021-08-10
公开(公告)号: CN113607761B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 王志立;陈恒 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: G01N23/041 分类号: G01N23/041;A61B6/00
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 陆丽莉;何梅生
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种基于光栅干涉仪的X射线多模式成像新方法,是应用于沿Z轴向上依次设置有X射线源、相位光栅、吸收分析光栅、探测器所构成的X射线光栅干涉仪中,且在沿Y轴向上中心对齐;X射线源发射的X射线入射到相位光栅被空间调制,出射X射线穿透被成像物体、吸收分析光栅后入射到探测器。空间调制X射线的强度分布被探测器测量并记录;利用提出的信号计算公式处理探测器记录的光强分布数据,能够获取被成像物体的吸收信号、折射信号和暗场信号。本发明能够解决吸收分析光栅的步进位置不满足等间距要求时,被成像物体的吸收信号、折射信号、暗场信号的定量、准确提取问题。
搜索关键词: 一种 基于 光栅 干涉仪 射线 模式 成像 新方法
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