[发明专利]掩模板结构及掩模板结构的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110697699.1 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN113403576B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 韩冰;王水俊;周丽芳;杨凯;李文星 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 代理人: 唐维虎
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请实施例提供一种掩模板结构及掩模板结构的制备方法,通过针对对位掩模条设计异形对位部,可以使得实际对位部与张网部分形成高度差,避免对位部与待蒸镀基板进行接触而导致蒸镀对位部分不稳定,并且掩模板框架上的对位凹槽与对位部一一对应,无需针对整个对位掩模条进行整面开槽,因此开槽面积更小,从而可以提升掩模板框架的机械强度。此外,通过将异形对位部与支撑部进行连接,支撑部与掩模板框架表面形成支撑,可以保证张网过程中对位掩模条能够正常受力。
搜索关键词: 模板 结构 制备 方法
【主权项】:
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