[发明专利]一种新型的光刻显影工艺在审
| 申请号： | 202110695460.0 | 申请日： | 2021-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN113341661A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 沈小娟 | 申请（专利权）人： | 无锡职业技术学院 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人： | 王鹏翔 |
| 地址： | 214123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种新型的光刻显影工艺，包括显影工序，显影工序包括：1）将去离子水喷嘴从圆片一侧移到圆片上方，旋转圆片，喷水进行预浸润；2）在预浸润后，保持圆片旋转，喷嘴复位，接着一边将显影液喷嘴从圆片一侧向圆片中心移动，一边喷显影液，进行显影液预浸润；3）显影液预浸润后，降低圆片转速，继续喷显影液，在圆片表面形成显影液覆盖后，喷嘴复位，进行显影反应；4）显影反应后，将去离子水喷嘴从圆片一侧移动到圆片上方，喷水清洗圆片，同时提高圆片转速；5）在清洗后，继续喷水，并使圆片降低转速，在圆片表面形成水膜后停止喷洒；6）待去离子水喷嘴复位后，提高圆片转速进行甩干。本发明具有减少显影缺陷的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 光刻 显影 工艺 | ||
【主权项】：
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