[发明专利]双尺度高效定域电沉积打印纯铜结构件制造装置及方法有效
申请号: | 202110667205.5 | 申请日: | 2021-06-16 |
公开(公告)号: | CN113355703B | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
发明(设计)人: | 任万飞;许金凯;徐振铭;邹兆强 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | C25D1/00 | 分类号: | C25D1/00 |
代理公司: | 长春市吉利专利事务所(普通合伙) 22206 | 代理人: | 李晓莉 |
地址: | 130022 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 双尺度高效定域电沉积打印纯铜结构件制造装置及方法,属于定域电化学沉积技术领域,包括隔振平台、EcP打印系统、EDM电火花加工系统、LECD‑μAM系统、电解池单元、电解池运动单元、EcP打印运动系统以及中央控制系统。本发明通过三个单独步骤实现纯铜金属微结构的定域电化学沉积的正向制造,利用电火花成形加工技术(EDM电火花加工)将两种电化学沉积技术有效衔接起来;将毫米级电化学沉积的快速材料构筑作为基础,再利用精密电火花成形加工技术在待沉积表面进行抛光加工,最后利用LECD‑μAM技术在抛光后的表面实现纯铜金属微结构的正向制造。 | ||
搜索关键词: | 尺度 高效 定域电 沉积 打印 结构件 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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