[发明专利]利用等离子体制备纳米结构过渡金属氮化物薄膜的方法有效
| 申请号： | 202110555741.6 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113278928B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 王志君;张桦洲;何革 | 申请（专利权）人： | 成都大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/02;C23C14/06;C01B21/06 |
| 代理公司： | 深圳国联专利代理事务所(特殊普通合伙) 44465 | 代理人： | 张锋 |
| 地址： | 610106*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 利用等离子体制备纳米结构过渡金属氮化物薄膜的方法，采用等离子体设备作为制备的装置，制备的流程包括五个步骤。本发明以氮气代替氨气或有毒含氮有机物为氮源，更经济环保，还避免了使用氨气时带来爆炸的危险；在密闭真空条件下进行制备，避免了大量氮气的浪费，还使得反应过程更加洁净；使用过渡金属单质作为原料，在其表面原位生成纳米结构及氮化物层，步骤简单，更为重要的是所得氮化物薄膜性质更加稳定；利用等离子体轰击金属表面实现纳米结构的形成以及氮化物层的合成，反应快速（时间1小时），且无需外部加热，避免了电能的大量浪费。本发明合成的纳米氮化物薄膜层尺寸可调、成分过渡均匀且基底‑氮化物层结合更紧密，因此应用价值高。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 等离子体 制备 纳米 结构 过渡 金属 氮化物 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
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