[发明专利]一种浸没式光刻机浸没流场维持装置在审
申请号: | 202110449115.9 | 申请日: | 2021-04-25 |
公开(公告)号: | CN113176711A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 张俊杰 | 申请(专利权)人: | 上海图双精密装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海海贝律师事务所 31301 | 代理人: | 宋振宇 |
地址: | 201712 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种浸没式光刻机浸没流场维持装置,包括浸液盘、稳流机构,所述浸液盘一端的进液接管侧面设有给液泵,所述进液接管外侧的浸液盘侧面斜向设有排液接管,所述导液通道外侧的浸液盘内腔通过分隔板横向设有S形维持通道,所述蓄液腔一侧的浸液盘内壁设有空气压缩室,所述稳流机构包括第一缓流板、第二缓流板、加压喷头,所述第一缓流板、第二缓流板设在维持通道内壁一端,所述加压喷头斜向设在维持通道里侧的空气压缩室侧面。本发明维持通道内的浸没液在加压喷头作用下保持水平方向的匀速流动并配合第一缓流板、第二缓流板实现内部浸没液的循环供给,能够维持浸没流场稳定流动的同时节约整体成本,使用效果好。 | ||
搜索关键词: | 一种 浸没 光刻 维持 装置 | ||
【主权项】:
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