[发明专利]一种光斑光强度分布测量装置及方法在审
| 申请号： | 202110390188.5 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113203474A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 张帅宇;胡国行;汪琳;祖继锋;邵建达;刘永江;左旭超;杨文涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01J1/42 | 分类号： | G01J1/42;G01J1/04 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光斑光强度分布测量装置及方法，其主要组成元件为：功率计、带透过孔径的遮挡屏、XZ轴平动机械装置、机械控制系统和计算机。所述的功率计与计算机相连，导轨与控制系统相连。利用上述装置，通过透过孔径确定光斑内待测位置，光束透过遮挡板上的后进入功率计，测定相应位置的光强度。在XZ轴不断移动遮挡屏和功率计，得到整体光斑位置与光强度的关系，从而实现光斑内部的光强度分布测量的目的。本发明具有透射孔径尺寸可调从而控制测量精度的优点，能够有效地测量高功率、大面积光斑内部的光强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光斑 强度 分布 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
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