[发明专利]存储器装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110269417.8 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN114864584A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 李俊霖 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112;H01L21/8246
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 单晓双;叶明川
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种存储器装置及其制造方法。所述存储器装置包括基板及电子熔丝结构。基板包括阵列区及电子熔丝区,且基板的电子熔丝区中具有电子熔丝沟槽。电子熔丝结构包括第一栅极氧化物层、多个掺杂区、虚设埋入式字线及电子熔丝栅极。第一栅极氧化物层形成于电子熔丝沟槽的表面上。这些掺杂区分别形成于电子熔丝沟槽之外的相对两侧的基板中,并与第一栅极氧化物层接触。虚设埋入式字线形成于第一栅极氧化物层上。电子熔丝栅极形成于虚设埋入式字线上且与第一栅极氧化物层接触。虚设埋入式字线与电子熔丝栅极电性隔绝。
搜索关键词: 存储器 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
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