[发明专利]微波等离子体发生装置及等离子蚀刻设备有效
| 申请号： | 202110254955.X | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN113038683B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 赵义党;李志强;李志华;廖文晗;贝亮 | 申请（专利权）人： | 珠海恒格微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01J37/32;H05K3/00;H05K3/06 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 卢泽明 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市横琴新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及电路板加工设备技术领域，尤其涉及一种微波等离子体发生装置及等离子蚀刻设备；本发明的微波等离子体发生装置在的等离子腔的上端设置微波导入腔，并且微波导入腔和等离子腔之间通过石英板隔开，等离子腔连接第一冷却组件，所述第一冷却组件为形成在所述冷却板上的环形冷流道，保证整个等离子体发生装置的散热效果，从而延长装置的使用寿命，并且该装置长时间使用后仍可以均匀地产生等离子体，保证蚀刻的质量和效率；本发明的等离子蚀刻设备采用上述的微波等离子体发生装置，能够稳定且均匀地蚀刻电路板，保证电路板的蚀刻质量，延长整个设备的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 等离子体 发生 装置 等离子 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
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