[发明专利]一种基于超透镜阵列的激光并行直写装置及方法在审
| 申请号： | 202110253890.7 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN112987511A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 王津;周常河;贾伟;谢永芳 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 郑浦娟 |
| 地址： | 510632 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于超透镜阵列的激光并行直写装置及方法，将超透镜阵列置于直写光路中，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用超透镜阵列，可以形成多点光斑，即一次直写多条光栅栅线，提高激光直写装置的直写并行度。本发明适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 透镜 阵列 激光 并行 装置 方法 | ||
【主权项】：
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