[发明专利]一种光刻机的旋转平台的旋转装置在审
| 申请号： | 202110067127.5 | 申请日： | 2021-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN112947007A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 李艳丽;伍强 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;尹一凡 |
| 地址： | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了光刻机的旋转平台的旋转装置，包括：用于承载工件台的旋转平台；磁悬浮平面旋转电机，使旋转平台作水平旋转；感生电流线圈，用于测量所述旋转平台的转动角度和平移量，并反馈给所述磁悬浮平面旋转电机以及进行反馈控制；多个零位传感器，用于测量所述旋转平台的在六个自由度上的偏移量，并反馈给所述磁悬浮平面旋转电机，触发所述磁悬浮平面旋转电机补偿所述偏移量。本发明使用感生电流线圈对转动角度和平移量进行实时测量和反馈控制，还使用零位传感器对六个自由度的偏移量进行测量和补偿，从而确保旋转平台能够精准地将工件台交换到对应的工位，减少了工件台位置校准所需的时间，提高了光刻处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 旋转 平台 装置 | ||
【主权项】：
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