[发明专利]一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置有效
| 申请号： | 202110048105.4 | 申请日： | 2021-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN112731776B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;温积森;刘旭;丁晨良;朱大钊 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置，包括偏振控制模块、准直扩束系统、激发光束阵列掩膜、偏振分光镜、四光束干涉形成的抑制光虚拟掩膜、聚焦高数值孔径物镜以及三维可控精密位移台等主要装置，所述的空间光调制器实时连续加载不同的计算全息图实现激发光束阵列子光束的开光，从而实现不同图案的直写。四光束两两呈一定角度干涉形成光学掩膜作为抑制光阵列，从而提高直写分辨率。这使得该系统的直写效果更加丰富，直写效率与分辨率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双掩膜高 通量 激光 分辨 方法 装置 | ||
【主权项】：
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