[发明专利]一种基于视场耦合约束的直接光照与全局光照分离方法有效
| 申请号： | 202110010278.7 | 申请日： | 2021-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN113156454B | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 姜宏志;李宇曦;赵慧洁;李旭东 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G01S17/89 | 分类号： | G01S17/89 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于视场耦合约束的直接光照与全局光照分离方法，属于光学成像领域。本发明所涉及的分离直接光照与全局光照的方法应用于空间光调制器与像素阵列探测器所组成的共轴成像系统。在成像过程中，首先，通过单像素成像方法，解算得到像素阵列探测器每个像素对应于空间光调制器视角的光传输系数；然后，根据视场耦合约束，得到每个像素光传输系数中的直接光照分量，光传输系数的其余部分即为全局光照分量，从而实现在光传输层面的直接光照和全局光照的分离目标；最后，通过光照耦合重构算法可分别获得直接光照分量和全局光照分量成像结果。由于充分利用了直接光照分量一定满足视场耦合约束，而全局光照分量基本不满足该约束的重要关系，本发明可在存在各种全局光照条件下，分离直接光照和全局光照分量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 视场 耦合 约束 直接 光照 全局 分离 方法 | ||
【主权项】：
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