[发明专利]微透镜阵列及其制作方法、匀光元件和成像模组在审
| 申请号： | 202110007564.8 | 申请日： | 2021-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN112666639A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 冯坤亮;丁细超;鞠晓山;李宗政 | 申请（专利权）人： | 江西欧迈斯微电子有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 李岩 |
| 地址： | 330096 江西省南昌市*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微透镜阵列及其制作方法、匀光元件和成像模组。微透镜阵列的制作方法将阵列平面上的每个初始控制点分别沿阵列平面的第一方向和第二方向随机偏移以得到多个目标控制点，阵列平面上具有多个初始控制点，第一方向垂直于第二方向；根据多个目标控制点计算出多个泰森多边形边界，其中，每个目标控制点对应一个泰森多边形边界，相邻两个泰森多边形边界至少共用一个边；将所述目标控制点作为微透镜的中心投影，将所述泰森多边形边界作为微透镜的边界投影以生成多个微透镜，从而得到所述微透镜阵列。如此，可以使得微透镜阵列具有更大的填充比例，也可以有效的消除莫尔效应，从而改善集成成像的观看效果。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 及其 制作方法 元件 成像 模组 | ||
【主权项】：
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