[发明专利]利用光刻校正补偿精细金属蒸镀网形变误差的方法在审
| 申请号： | 202011628364.6 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112853263A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 刘胜;宋磊;宋毅;桂成群 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 石超群 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种利用光刻校正补偿精细金属蒸镀网形变误差的方法，采用光刻的校正来补偿精细金属掩膜板形变带来的工艺问题，该方法包括以下步骤：步骤S1、获取精细金属掩膜板样品的形变误差参数；步骤S2、基于获取到的形变误差参数调整光刻参数以使光刻得到的基板的形变误差与所述精细金属掩膜板样品的形变误差相一致。本发明针对OLED制作过程中，由于FMM因应力等原因产生平移、旋转、局部放大等形变缺点，通过获取FMM的形变参数并调整基板的光刻参数来适应FMM的形变误差，从而在蒸镀过程中保证蒸镀图像或图案的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 光刻 校正 补偿 精细 金属 蒸镀网 形变 误差 方法 | ||
【主权项】：
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