[发明专利]图案形成方法在审
| 申请号： | 202011498811.0 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN113126439A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | C-B·徐;刘聪;J·F·卡梅伦;林载峰;侯希森;沈载桓 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司;罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/115 | 分类号： | G03F7/115;G03F7/075;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 徐鑫;陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
图案形成方法包括：(a)在基底上形成底层，其中所述底层的厚度为5微米或更大；(b)在所述底层上形成光致抗蚀剂层，其中所述光致抗蚀剂层由光致抗蚀剂组合物形成，所述光致抗蚀剂组合物包含含硅聚合物、光酸产生剂和溶剂，其中所述含硅聚合物包含作为聚合单元的式(I)的单体：其中：R |
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| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
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