[发明专利]光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机有效
| 申请号： | 202011483312.4 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112558430B | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 陈力钧;王晓龙;朱晓斌 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/66 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机，光罩位置匹配装置具有一空腔，内有一工作台，包括第一传感器、第二传感器和处理器，处理器存储有多个光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息，工作台可在竖直方向上进行升降动作，并可在水平方向上进行旋转动作，第二传感器用于获取光罩的位置信息，处理器根据匹配对信息判断光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号匹配，若两者不匹配，则驱动工作台以调整光罩的位置。本发明通过增加第二传感器，并通过设置工作台在空腔的水平方向上进行旋转动作，从而使光罩的摆放位置与当前光刻机的机台型号相匹配，避免机台因识别不到光罩发生宕机，提高工作效率，减少人力成本，降低人为错误。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 匹配 装置 及其 方法 光刻 | ||
【主权项】：
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