[发明专利]一种电光器件及其制造方法在审
| 申请号： | 202011460458.7 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN112558217A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 杨妍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/12;G02B6/124;G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人： | 王胜利 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电光器件及其制造方法，涉及光器件制造技术领域，以减小电光器件在使用过程中半导体衬底的微波损耗，进而提高电光器件的带宽和数据率。该电光器件包括：基底，该基底包括衬底，以及形成在衬底上的光波导；沿基底的厚度方向，基底上形成有贯穿衬底的第一开口槽，第一开口槽与光波导相对设置；第一开口槽内填充有空气或低介电损耗材料，低介电损耗材料的介电损耗因子小于衬底的介电损耗因子。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电光 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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