[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 202011292113.5 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN112824554B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 关谷任史;木村龙司;新海达也;冈部俊介 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;C23C14/34;C23C16/04;C23C16/52 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 韩卉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种抑制对准精度降低的成膜装置。本发明的成膜装置具备：容器；所述容器的外部的基座支承体；所述容器内的基板保持件；所述容器内的掩模保持件；基板保持件驱动机构；掩模保持件驱动机构；基板保持件驱动机构支承体，其与所述基座支承体连接；掩模保持件支承体，其与所述基座支承体连接，支承所述掩模保持件；所述基座支承体与所述基板保持件驱动机构之间的振动传递抑制构件；以及对准用相机单元，其设置于所述容器的外部且设置于所述掩模保持件支承体，用于测定基板与掩模的相对位置偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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