[发明专利]一种红外窗口增透保护结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202011051048.7 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112080722A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 张美奇;赵培 | 申请（专利权）人： | 昆明奥夫特光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32;C23C16/26;C23C14/18;C23C28/00;G02B1/115;G02B1/14 |
| 代理公司： | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人： | 杨立秋 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市市辖区滇中*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学薄膜技术领域，具体涉及一种红外窗口增透保护结构及其制备方法，该结构包括增透层、基底和保护层，基底的一侧附着有增透层，另一侧附着有保护层；增透层自基底起依次包括第一锗层、第一硫化锌层、第二锗层和第二硫化锌层；保护层自基底起依次包括锗砷硒层和类金刚石层，本发明提供了一种红外窗口增透保护结构及其制备方法，锗砷硒层作为类金刚石层和基底层之间唯一的中间层，一方面增加了窗口的光学透过性，另一方面减小了膜层间的应力，解决了无法在硫族材料上沉积类金刚石膜的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 红外 窗口 保护 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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