[发明专利]平面磁控溅射源有效
| 申请号： | 202011023783.7 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112342511B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 王德苗;顾为民;顾骏;冯斌 | 申请（专利权）人： | 杭州比凡科电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 刘静 |
| 地址： | 310012 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种平面磁控溅射源，该平面磁控溅射源由腹部开有沉槽的船型导磁靴、中心磁钢、靶背板、导磁压靶环等构成，其沉槽中布置中心永久磁钢并通冷却水，靶背板直接固定在船型导磁靴上。同已有的平面磁控溅射源比较，无需再设置水冷腔，也不需要屏蔽罩，大大减轻了重量缩小了体积，并显著提高了靶的功率效率。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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