[发明专利]一种低温等离子体协同Cu/γ-Al2在审

专利信息
申请号: 202010984131.3 申请日: 2020-09-18
公开(公告)号: CN112387088A 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 马懿星;陈鹏;宁平;王学谦;薛宇;王郎郎;王明飞;李凯;瞿广飞 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: B01D53/32 分类号: B01D53/32;B01D53/86;B01D53/48
代理公司: 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 代理人: 赛晓刚
地址: 650000 云南*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种低温等离子体协同Cu/γ‑Al2O3催化剂降解羰基硫的方法,该方法在同轴式介质阻挡放电反应器的介质层内的等离子体放电区域填充制备的催化剂,然后利用气体质量流量计将羰基硫通入同轴式介质阻挡放电反应器中,等离子体电压为8~10KV,频率为8~10KHz,在室温下等离子体协同Cu/γ‑Al2O3催化剂对羰基硫降解率高达99.5%以上;本发明将低温等离子体的高反应活性与催化剂的高反应选择性相结合,在室温下操作,方法简单且运行成本低,此外本发明中催化剂中的Cu+和Cu2+引入能有效抑制反应过程中的H2S和SO2生成,使羰基硫主要降解生成单质S,减少了二次污染的问题,本方法工艺简洁,可行性高,具有良好的经济效益和环境效益。
搜索关键词: 一种 低温 等离子体 协同 cu al base sub
【主权项】:
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