[发明专利]近场光学光刻机

摘要

一种近场光学光刻机是利用近场光学原理设计的新型光刻机，解决了传统光刻机受到光波长和衍射限制，难以达到更高的线宽精度的问题。该光刻机由掩膜版与硅片贴合曝光系统，平台系统，硅片送料系统，硅片出料系统，减震系统，电源供电系统，控制系统，硅片出料仓，硅片进料仓等部分组成。工作机制是将掩膜版和硅片严密贴合到一起形成近场光学效应，曝光涂有感光胶的硅片，硅片感光后将掩膜版的图案刻制到硅片等半导体材料上，以达到制作半导体芯片的目的，利用近场光学原理的近场光学光刻机的加工精度可以达到纳米级。