[发明专利]一种MOCVD组合喷淋头及MOCVD设备有效
| 申请号： | 202010766982.0 | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN111778552B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 刘可为;陈星;申德振;杨佳霖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/54 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王雨 |
| 地址： | 130033 吉林省长春市*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MOCVD组合喷淋头，包括固定轨道及多个单一反应源喷淋头；所述固定轨道用于固定多个所述单一反应源喷淋头；所述单一反应源喷淋头包括机动组件、扩散腔、输气管及喷嘴阵列；反应气体通过所述输气管进入所述扩散腔，并在所述扩散腔内扩散后，通过所述喷嘴阵列到达待沉积衬底的表面；所述单一反应源喷淋头通过所述机动组件连接于所述固定轨道，并通过所述机动组件沿所述固定轨道在垂直于所述待沉积衬底的表面的方向上移动。本发明调控MOCVD反应腔体内流场、控制不同类型的反应的反应进度的目的，提高MOCVD生长多元合金薄膜的均匀性与品质。本发明同时还提供了一种具有上述有益效果的MOCVD设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 组合 喷淋 设备 | ||
【主权项】：
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