[发明专利]一种钼钨溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 202010695438.1 | 申请日： | 2020-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN111893442B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 陈金;李保强;刘文迪;黄志民 | 申请（专利权）人： | 厦门虹鹭钨钼工业有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F9/04;B22F9/22;B22F3/04;B22F3/10;B22F3/14 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 张松亭;姜谧 |
| 地址： | 361000 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钼钨溅射靶材及其制备方法，其相对密度为99.0‑99.5％，氧含量为350‑600ppm，原料由纯度≥4N的三氧化钨粉和纯度≥3N的钼粉组成，且三氧化钨粉的含量为15‑20wt％，余量为钼粉，该三氧化钨粉的粒径为7‑10μm，该钼粉的粒径为4.5‑6.5μm。本发明适用于制备平面显示器，组织均匀，无孔洞，且氧含量低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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