[发明专利]显示基板及其制备方法、曝光对位方法有效
| 申请号： | 202010618823.6 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111736427B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 周毅;张立震;徐胜;何伟;吴慧利;赵雪飞;贺芳;李士佩;顾仁权;黎午升 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F9/00;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 提供一种显示基板及其制备方法、曝光对位方法，该显示基板包括衬底以及设置在所述衬底上的低反射膜层，所述低反射膜层包括设置于所述衬底之上的晶体基底以及形成于所述晶体基底上的多个棱锥微结构，所述棱锥微结构的外表面形成有多个微孔。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 及其 制备 方法 曝光 对位 | ||
【主权项】：
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