[发明专利]光刻系统及其清洁方法在审
| 申请号： | 202010572938.6 | 申请日： | 2020-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN112305869A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 林圣达;陈立锐;简上杰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 王素琴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 提供一种光刻系统及其清除方法。光刻系统包含光源产生器。光源产生器包含反射镜、液滴产生器以及液滴捕集器。液滴产生器和液滴捕集器彼此面对，且安置在环绕反射镜的区域处。清洁方法包含：经由光源产生器的装载埠将液滴产生器移出光源产生器；经由相同装载埠将铲总成插入到光源产生器中；使用附接到铲总成的管道镜来辨识由液滴产生器产生的液滴所形成的沉积物的位置；使用铲总成来移除和收集沉积物；以及经由装载埠将铲总成与管道镜一起从光源产生器中撤出。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 及其 清洁 方法 | ||
【主权项】：
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