[发明专利]成膜装置在审

专利信息
申请号: 202010542182.0 申请日: 2017-11-06
公开(公告)号: CN111647870A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 松崎淳介;高桥明久;水岛优 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34;H01L21/677;B65G49/00;B65G47/26
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张泽洲;王丽辉
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽(2)内具备对保持于基板保持器的基板(10)上进行成膜的第1及第2成膜区域(4、5)、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域的搬运路径、在使多个基板保持器水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构。基板保持器搬运机构具备与设置于各基板保持器的被驱动部接触而使基板保持器向移动方向推压来移动的多个驱动部,该驱动部关于相邻的基板保持器,以移动方向下游侧的基板保持器的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域搬运。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
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