[发明专利]DMD光刻系统中倾角及放大倍率的测量和校正方法有效
| 申请号： | 202010434655.5 | 申请日： | 2020-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN111580346B | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 陈岐岱;刘华;孙洪波 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/26;G01M11/02 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人： | 刘世纯 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种DMD光刻系统中倾角及放大倍率的测量和校正方法，属于光学技术领域，本发明根据测得的数据进行相应的计算，可补偿平台倾角和校正投影放大倍率，无需对掩模图进行复杂的处理，只需要运用简单的数学关系去计算平台移动距离，即可实现倾角的补偿，改善图案错位、模糊等现象，可使配置二维移动平台的DMD无掩模光刻系统实现理想应用，达到制备大规模结构的目的。本发明的校正方法，不仅成本低，而且无需大面积的测试板面、大距离的移动以及高精度的测试仪器，只需要实验室显微镜进行测量即可。此外，本发明减少了加工前期图像处理的麻烦，适用于大多数的光刻系统，应用性比较广。 | ||
| 搜索关键词： | dmd 光刻 系统 倾角 放大 倍率 测量 校正 方法 | ||
【主权项】：
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