[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 202010412869.2 | 申请日: | 2020-05-15 |
公开(公告)号: | CN111554718B | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | 刘利宾;冯宇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H10K59/131 | 分类号: | H10K59/131;H10K50/82;H10K71/00 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示技术领域,提出一种阵列基板及其制作方法、显示装置,阵列基板包括:衬底基板、第一导电层、第一平坦层、第二导电层、像素定义层、公共阴极层,第一导电层位于衬底基板的一侧,包括位于第二集成区的第一导电部;第一平坦层位于第一导电层背离衬底基板的一侧,第一平坦层上设置有第一开口;第二导电层位于第一平坦层背离衬底基板的一侧,包括第二导电部,第二导电部覆盖第一开口,以与第一导电部电连接;像素定义层位于第二导电层背离衬底基板的一侧,像素定义层形成有位于第一集成区的第二开口;公共阴极层位于像素定义层背离衬底基板的一侧,覆盖第二开口,以与第二导电部电连接。本公开能够减小公共阴极层与电源线之间的电阻。 | ||
搜索关键词: | 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
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