[发明专利]一种窄带隙二维半导体化合物EuTe4、其制备方法及其应用在审

专利信息
申请号: 202010119194.2 申请日: 2020-02-27
公开(公告)号: CN111334864A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 吴东 申请(专利权)人: 苏州东薇极光信息科技有限公司
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B11/02;H01L31/08;H01L31/032;H01L35/16;H01L45/00
代理公司: 杭州知学知识产权代理事务所(普通合伙) 33356 代理人: 何红信
地址: 215000 江苏省苏州市高*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本公开提供了一种窄带隙二维半导体化合物EuTe4、其制备方法及其应用,兼具二维材料和窄带隙半导体材料的优点,可应用于光电探测器、热电材料、二维超晶格器件和相变电子学器件。窄带隙二维半导体化合物EuTe4,化学式为EuTe4,晶体结构属于正交晶系,空间群为Pmmn,晶胞参数为:α=90°;β=90°;γ=90°。EuTe4为窄禁带半导体,光学带隙约为0.3eV,电阻随着温度降低而增大,具有典型的一阶相变特征;本公开中的具有二维材料和窄带隙半导体材料的优点,具有重要的应用和基础研究价值。
搜索关键词: 一种 窄带 二维 半导体 化合物 eute4 制备 方法 及其 应用
【主权项】:
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