[发明专利]一种窄带隙二维半导体化合物EuTe4、其制备方法及其应用在审
申请号: | 202010119194.2 | 申请日: | 2020-02-27 |
公开(公告)号: | CN111334864A | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 吴东 | 申请(专利权)人: | 苏州东薇极光信息科技有限公司 |
主分类号: | C30B29/46 | 分类号: | C30B29/46;C30B11/02;H01L31/08;H01L31/032;H01L35/16;H01L45/00 |
代理公司: | 杭州知学知识产权代理事务所(普通合伙) 33356 | 代理人: | 何红信 |
地址: | 215000 江苏省苏州市高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本公开提供了一种窄带隙二维半导体化合物EuTe4、其制备方法及其应用,兼具二维材料和窄带隙半导体材料的优点,可应用于光电探测器、热电材料、二维超晶格器件和相变电子学器件。窄带隙二维半导体化合物EuTe4,化学式为EuTe4,晶体结构属于正交晶系,空间群为Pmmn,晶胞参数为: |
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搜索关键词: | 一种 窄带 二维 半导体 化合物 eute4 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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