[发明专利]过曝图形漏报错的检查方法、计算机设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 202010104683.0 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN111338180B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 夏国帅;张辰明;陈翰 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84;G03F1/36;G06T7/62;G06T7/187
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种过曝图形漏报错的检查方法、计算机设备及存储介质,检查方法将OPC修正后的目标版图作为第一检查对象,其中,第一检查对象中的校正图形呈M×N分布;根据第一检查对象所在的区域和校正图形所在的区域,计算得到第二检查对象的若干个待检查区域,待检查区域与校正图形的区域邻接或相离;对第二检查对象作基于面积的OPC修正后检查,判断是否有存在面积大于预设阈值的过曝图形。本发明提供的过曝图形漏报错的检查方法将桥接检查变成区域范围的面积检查,可以有效的检出过曝图形现象;能及时反馈OPC修正后的检查结果,使其在OPC处理过程中能够进一步的优化程序,使工艺窗口能够最大化。
搜索关键词: 图形 漏报 检查 方法 计算机 设备 存储 介质
【主权项】:
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