[发明专利]一种抛光减薄装置和抛光减薄方法在审

专利信息
申请号: 202010101837.0 申请日: 2020-02-19
公开(公告)号: CN111300260A 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 汪宁 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B57/02;H01L21/304
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 杨华
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,包括:托盘,用于固定待加工部件,所述待加工部件包括InP基晶圆;喷头,用于向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,以对所述待加工表面进行抛光;磁转子,放置在所述待加工部件的待加工表面上,用于通过旋转对所述待加工表面进行机械研磨,对所述待加工表面进行减薄。由于减薄过程中待加工部件如InP基晶圆本身不旋转,因此,可以大大降低抛光减薄过程中对待加工部件如InP基晶圆的挤压应力,大大降低待加工部件如InP基晶圆的机械加工损伤。
搜索关键词: 一种 抛光 装置 方法
【主权项】:
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