[发明专利]等离子处理装置在审
申请号: | 202010099518.0 | 申请日: | 2020-02-18 |
公开(公告)号: | CN111755310A | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 石丸裕 | 申请(专利权)人: | 日本电产株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/244 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 曾贤伟;郝庆芬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种等离子处理装置。该等离子处理装置使第一电极部和第二电极部之间产生等离子并进行等离子处理,具备:上述第一电极部;电源部,其在上述第一电极部和上述第二电极部之间施加电压;电流检测部,其检测在上述第一电极部和上述第二电极部之间施加电压而产生的等离子放电的放电电流;以及控制部,其比较通过上述电流检测部检测出的检测值和预定阈值并调整上述电源部的施加电压。 | ||
搜索关键词: | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电产株式会社,未经日本电产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010099518.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。